[发明专利]图像处理装置、基于自组装光刻技术的图案生成方法以及计算机程序在审
| 申请号: | 201380058529.2 | 申请日: | 2013-11-14 |
| 公开(公告)号: | CN104781908A | 公开(公告)日: | 2015-07-15 |
| 发明(设计)人: | 酢谷拓路;伊泽美纪;腰原俊介;杉山明之 | 申请(专利权)人: | 株式会社日立高新技术 |
| 主分类号: | H01L21/027 | 分类号: | H01L21/027;B82Y40/00;G01B15/04 |
| 代理公司: | 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 | 代理人: | 范胜杰;曹鑫 |
| 地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 图像 处理 装置 基于 组装 光刻 技术 图案 生成 方法 以及 计算机 程序 | ||
1.一种图像处理装置,其具备使用预先生成的模板在图像上执行图案匹配的匹配处理部,该图像处理装置的特征在于,
该匹配处理部使用根据表示应用于自组装光刻的导向图案的数据形成的模板来执行所述图案匹配。
2.根据权利要求1所述的图像处理装置,其特征在于,
所述匹配处理部使用在所述导向图案的内部选择性地排列由所述自组装光刻时的退火处理形成的图案而得的模板来执行所述图案匹配。
3.根据权利要求2所述的图像处理装置,其特征在于,
所述模板表示通过对在所述导向图案的内部进一步形成了导向图案的图案实施所述退火处理而得到的图案形状。
4.根据权利要求1所述的图像处理装置,其特征在于,
所述模板是从通过带电粒子束装置取得的图像中去除所述导向图案外部的高分子化合物的图像而得到的模板。
5.根据权利要求1所述的图像处理装置,其特征在于,
所述模板是向所述导向图案的图像数据附加基于在该导向图案内部形成的高分子化合物而形成的图案的图像而得到的模板。
6.根据权利要求5所述的图像处理装置,其特征在于,
所述导向图案的图像数据是根据该导向图案的设计数据而得到的图形数据,或根据针对该设计数据的模拟而得到的图形数据。
7.一种基于自组装光刻技术的图案生成方法,其向形成有导向图案的试样上涂布高分子嵌段共聚物后进行退火来进行图案形成,该图案生成方法的特征在于,
在成为图案匹配用模板的图案的内部,向基于使用形成了导向图案的光掩模的曝光而生成的图案上涂布所述高分子嵌段共聚物后进行所述退火,执行图案形成。
8.根据权利要求7所述的基于自组装光刻技术的图案生成方法,其特征在于,
在成为所述模板的图案的内部等间隔地配置所述导向图案。
9.根据权利要求8所述的基于自组装光刻技术的图案生成方法,其特征在于,
所述导向图案的宽度以及间距是自组装技术中的容许尺寸以及容许间距,是仅朝向一个方向的线段。
10.一种计算机程序,其使运算处理装置使用模板在图像上执行图案匹配,该计算机程序的特征在于,
该程序使所述运算装置使用模板来执行所述图案匹配,其中,所述模板是根据用于表示在自组装光刻中所使用的导向图案的数据来形成的模板。
11.根据权利要求10所述的计算机程序,其特征在于,
该程序使所述运算装置使用模板来执行所述图案匹配,其中,所述模板是在所述导向图案的内部选择性地排列通过所述自组装光刻时的退火处理来形成的图案而得的模板。
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