[发明专利]一体型分离膜结构体的缺陷检测方法、修补方法以及一体型分离膜结构体

说明书

提供检测孔单元上形成有分离膜的一体型分离膜结构体缺陷的简易的缺陷检测方法。此外，提供修补具有缺陷孔单元的一体型分离膜结构体的修补方法、经过修补的一体型分离膜结构体。从孔单元(4)外对每个孔单元(4)用气体加压，测定气体渗透孔单元(4)内的渗透量，渗透量多于(所有孔单元的渗透量平均值+A)(其中A为σ～6σ的规定值、σ为标准偏差)的孔单元(4)判断为有缺陷的孔单元。或者，对每个孔单元(4)减压，测定孔单元(4)的真空度，真空度的值比(所有孔单元的真空度平均值+A)低的孔单元(4)判断为有缺陷的孔单元。然后，向一体型分离膜结构体(1)的缺陷孔单元(4)内注入高分子化合物(27)，令其固化，堵住缺陷孔单元(4)。或者，将预成型的高分子化合物(27)插入缺陷孔单元(4)，堵住缺陷孔单元(4)。

技术领域

本发明涉及孔单元的内壁面上成膜有分离膜的一体型分离膜结构体的缺陷检测方法、修补方法以及一体型分离膜结构体。

背景技术

近年来，为了从多成分的混合物(混合流体)中仅选择性回收特定的成分，使用的是陶瓷制的过滤器。陶瓷制的过滤器较之于有机高分子制的过滤器，由于机械强度、耐久性、耐腐蚀性等良好，因此在水处理和废气处理或医药和食品领域等广泛领域中理想地适用于除去液体和气体中的悬浊物质、细菌、粉尘等。

此种陶瓷制的过滤器中，为了在确保分离性能的同时提升水渗透性能，必须加大膜面积(分离膜的面积)，为此，呈蜂窝形状(一体型)较为理想。一体型分离膜结构体指的是，大多情况下，外形为圆柱形，具备多孔质的基材，该基材内部具有形成在其轴方向的许多平行的流路(称为孔单元)，另外，在形成孔单元的内壁面上，形成有孔径小于该多孔质基材的分离膜。

一体型的基材(蜂窝结构体)上成膜有分离膜时，即使许多孔单元上形成有良好的膜，但有部分孔单元存在缺陷的话就会影响产品质量。专利文献1中公开了陶瓷膜的缺陷检查法、缺陷修补法。

现有技术文献

专利文献

【专利文献1】日本专利特开平8-131786号公报

发明内容

但是，专利文献1的缺陷检查法和缺陷修补法，是管外表面缺陷的检查、修补方法。

无法目视检测一体型基材的孔单元内侧所产生的缺陷。此外，过去没有一体型基材的孔单元内侧所产生的缺陷的简易修补方法。

本发明的课题是提供检测孔单元上形成有分离膜的一体型分离膜结构体缺陷的简易的缺陷检测方法。此外，提供修补具有缺陷孔单元的一体型分离膜结构体的一体型分离膜结构体的修补方法。另外还提供缺陷经过修补的一体型分离膜结构体。

为解决上述课题，根据本发明，提供以下的一体型分离膜结构体的缺陷检测方法、修补方法以及一体型分离膜结构体。

[1]一种一体型分离膜结构体，包含一体型基材和分离膜，一体型基材具有多个孔单元，该孔单元沿着长度方向的一侧端面至另一侧端面，由多孔质隔壁区划形成，分离膜成膜在所述孔单元的内壁面，部分所述孔单元的至少两端部被不流通流体的密封材料闭塞。

[2]根据上述[1]所述的一体型分离膜结构体，其中，所述密封材料为高分子化合物。

[3]根据上述[2]所述的一体型分离膜结构体，其中，所述高分子化合物为合成树脂。

[4]根据上述[3]所述的一体型分离膜结构体，其中，所述合成树脂为环氧、硅系以及氟系中的任意一个。

[5]根据上述[1]～[4]中的任意一个所述的一体型分离膜结构体，其中，所述分离膜由无机材料形成。

[6]根据上述[5]所述的一体型分离膜结构体，其中，所述无机材料为沸石、碳以及二氧化硅中的任意一个。