[发明专利]掩模数据产生方法、执行该方法的程序和信息处理装置

权利要求书

1.一种掩模数据产生方法，用于产生在使用掩模将曝光光照射到基板上并然后使用另一掩模将曝光光照射到基板上的多次曝光中使用的多个掩模的数据，其特征在于，该方法包含由计算机执行的以下步骤：

获得包含多个图案元素的图案的数据，

确定图案元素的配置限制条件的规划，

分析图案元素之间的距离，

确定距离限制条件的规划，以及

在成本函数中应用被配置为表示图案划分的数量的第一变量和被配置为表示与所有图案元素有关的距离的第二变量，并由此划分图案。

2.根据权利要求1所述的掩模数据产生方法，其中，与多个图案有关的距离的最小值被用作成本函数。

3.根据权利要求1所述的掩模数据产生方法，其中，配置限制条件、距离限制条件和成本函数被陈述为整数问题，并且在划分图案时，使用整数规划或混合整数规划。

4.根据权利要求1所述的掩模数据产生方法，其中，与第一变量相乘的系数是正常数，与第二变量相乘的系数是负常数，成本函数被表示为包含以上两项的多项式，并且通过最小化成本函数来划分图案。

5.根据权利要求1所述的掩模数据产生方法，其中，与第一变量相乘的系数是负常数，与第二变量相乘的系数是正常数，成本函数被表示为包含以上两项的多项式，并且通过最大化成本函数来划分图案。

6.一种存储计算机程序的存储介质，其特征在于，其中计算机程序使计算机执行根据权利要求1所述的掩模数据产生方法。

7.一种信息处理装置，其特征在于，被配置为执行根据权利要求1所述的掩模数据产生方法。

8.一种掩模制造方法，其特征在于，该方法包括：

使用根据权利要求1所述的掩模数据产生方法来产生多个掩模的数据；以及

使用所述数据来制造所述多个掩模。

9.一种用于制造设备的方法，其特征在于，该方法包括：

通过使用曝光装置将通过根据权利要求8所述的掩模制造方法制造的掩模的图案转印到基板上；以及

在转印之后显影基板。