[发明专利]蒸发源

说明书

技术领域

本发明涉及蒸发源。

背景技术

在蒸镀装置中，需要在蒸镀时使坩埚内的蒸镀材料的温度分布均匀。这是因为在蒸镀材料的蒸发量和温度之间存在相关关系。

这里，要使坩埚内的蒸镀材料的温度分布均匀，需要使坩埚的温度分布均匀。这是因为坩埚内的蒸镀材料接受来自坩埚的热传递和辐射。

即，为了使蒸镀材料的蒸发量均匀，需要使坩埚的温度分布均匀，尤其重要的是使坩埚的蒸镀材料附近部分的温度分布均匀化。

另外，作为坩埚的温度分布不良的主要原因，可以举出坩埚与其它部件接触的情况。例如，在设置坩埚时，若坩埚底面与蒸发源支架或绝缘子接触，则只有接触部温度下降。此外，接触热阻根据与蒸发源保持器或绝缘子的接触状态而发生变化，因此温度产生各种变化。

因此，为了解决上述问题点，提出了例如在专利文献1中公开的技术。在该专利文献1中公开的技术如下：在收纳于被加热的外壳内的坩埚的底面设置脚部，来在坩埚的底面和外壳的底面之间设置间隔，由此减缓接触所导致的热变动。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本专利第4696710号公报

发明内容

发明所要解决的课题

然而，在上述专利文献1中，脚部设于蒸镀材料的正下方，因此认为坩埚的脚部附近通过经由脚部的热传递而被局部地加热，与其它部位相比，脚部附近的蒸镀材料的蒸发量增加。

因此，即便设置脚部的位置是坩埚端部，如果局部的蒸发量增加，则来自端部附近开口的蒸镀材料喷出量增加，从而在膜厚分布方面产生波动。

本发明是鉴于上述现状而完成的，其目的在于提供一种蒸发源，其通过以坩埚的外侧面上比蒸镀材料的填充面高的位置支承坩埚，而能够将坩埚在坩埚的外底面与收纳体的内底面分开的状态下收纳并配置在收纳体内，并且能够使坩埚的与收纳体的接触部位于远离蒸镀材料的位置，从而接触所导致的热变动的影响难以波及蒸镀材料，能够使蒸镀材料的温度分布均匀化，能够实现蒸镀材料蒸发量的稳定化。

用于解决课题的手段

参照附图对本发明的要点进行说明。

本发明涉及一种蒸发源，其由如下部分构成：坩埚2，其中可填充蒸镀材料1；加热部3，其被设成包围该坩埚2；和收纳体4，其收纳并配置所述坩埚2和所述加热部3，其特征在于，该蒸发源的构成为，在所述坩埚2的外侧面上比所述蒸镀材料1的填充面1a高且比坩埚2的开口位置低的位置设置坩埚承载部5，利用设于所述收纳体4的内侧的坩埚支持部6支承所述坩埚承载部5，能够在所述坩埚2的外底面与所述收纳体4的内底面分开的状态下将所述坩埚2收纳并配置于所述收纳体4内。

并且，根据第1方面所述的蒸发源，其特征在于，所述坩埚承载部5和所述坩埚支承部6的接触点设成比所述加热部3更靠坩埚2侧。

并且，根据第1或2方面所述的蒸发源，其特征在于，沿长度方向设有两个以上的供蒸镀材料1通过的开口部7。

并且，根据第1或2方面所述的蒸发源，其特征在于，分别设有两个以上的所述坩埚承载部5和所述坩埚支承部6。

并且，根据第1或2方面所述的蒸发源，其特征在于，所述蒸发源的构成为，由所述加热部3对所述坩埚承载部5和所述坩埚支承部6进行加热。

并且，根据第1或2方面所述的蒸发源，其特征在于，在所述坩埚2的外侧面设有朝向所述收纳体4的内侧面突出的突出部8，在该突出部8处设有所述坩埚承载部5。

并且，根据第1或2方面所述的蒸发源，其特征在于，所述坩埚2以使两个以上的分割体2a、2b彼此相互抵接的方式形成，在该分割体2a、2b彼此的抵接部处设有密封部件9。

并且，根据第1或2方面所述的蒸发源，其特征在于，所述蒸发源具备针对所述坩埚承载部5和所述坩埚支承部6的温度调节机构。

并且，根据第1或2方面所述的蒸发源，其特征在于，所述坩埚支承部6是所述加热部3。

并且，根据第1或2方面所述的蒸发源，其特征在于，在所述收纳体4和所述加热部3之间设有热反射部件。

发明效果

本发明如上述那样构成，由此形成蒸发源，该蒸发源使接触导致的热变动的影响难以波及蒸镀材料，能够使蒸镀材料的温度分布均匀化，能够实现蒸镀材料蒸发量的稳定化。

附图说明

图1是实施例1的示意性剖视图。

图2是实施例1的主要部分的示意性立体图。

图3是实施例2的示意性横剖视图。

图4是实施例2的主要部分的示意性立体图。