[发明专利]渗碳部件有效
| 申请号: | 201380043361.8 | 申请日: | 2013-09-02 |
| 公开(公告)号: | CN104583438B | 公开(公告)日: | 2016-10-12 |
| 发明(设计)人: | 藤堂尚二;大桥徹也;今高秀树;末野秀和 | 申请(专利权)人: | 新日铁住金株式会社 |
| 主分类号: | C22C38/00 | 分类号: | C22C38/00;C21D1/06;C21D6/00;C21D9/32;C22C38/60;C23C8/22 |
| 代理公司: | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人: | 刘新宇;李茂家 |
| 地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 渗碳 部件 | ||
技术领域
本发明涉及渗碳部件,更具体地涉及通过实施真空渗碳处理而制造的渗碳部件。
背景技术
为了提高机械部件的弯曲疲劳强度、耐磨耗性,对机械部件实施表面硬化处理。例如,对于作为汽车的变速器使用的齿轮、带式无级变速器(CVT)用滑轮,作为表面硬化处理,有时实施渗碳淬火处理。
作为渗碳淬火处理,以往大多利用气体渗碳淬火处理。然而,最近真空渗碳淬火处理开始普及。在真空渗碳淬火处理中,在与气体渗碳淬火处理相比压力减低的气氛内,使用烃气体实施渗碳处理。在真空渗碳淬火处理中,利用与真空炉结构相同的热处理炉。因此,与气体渗碳淬火处理比较,可以提高渗碳温度,可以缩短处理时间。另外,由于在减压下渗碳处理,因此晶界氧化被抑制,容易获得高疲劳强度。此外,由于碳收率高,因此可以抑制二氧化碳的排出量。
然而,在通过真空渗碳处理所制造的渗碳部件中,各部中的碳浓度有时不均。尤其,包括边角部的边缘部的碳浓度与平坦部相比容易变高。这样,碳浓度增高的现象称为过量渗碳。在发生过量渗碳的边缘部中,容易残留粗大的渗碳体。由于粗大的渗碳体容易构成裂纹的起点,因此,边缘部的弯曲疲劳强度有时降低。
国际公开第2009/131202号(专利文献1)、日本特开2007-291486号公报(专利文献2)、日本特开2006-349055号公报(专利文献3)、日本特开2000-129418号公报(专利文献4)、日本特开2008-81781号公报(专利文献5)和日本特开2009-57597号公报(专利文献6)提出了真空渗碳处理的改善策略。
具体而言,专利文献1目的是抑制渗碳部件的大致整个表面的表面碳浓度的不均。在专利文献1公开的真空渗碳处理中,以使平坦部的碳浓度在0.65±0.1质量%的范围内的渗碳条件实施真空渗碳处理。此后,在冷却气体中将渗碳部件缓慢冷却。此后,对渗碳部件实施高频加热,实施水淬火。
专利文献2的目的是抑制边缘部的过量渗碳。在专利文献2公开的真空渗碳处理中,钢材的化学组成按质量%计含有Si:0.5~3.0%、Ni:0.01~3.0%、Cu:0.01~1.00%和Cr:0.3~1.0%,满足[Si%]+[Ni%]+[Cu%]-[Cr%]>0.5。总之,专利文献2中,提高Si含量,减低Cr含量,抑制边缘部的过量渗碳。
专利文献3也提出了实施真空渗碳处理,使齿轮的表面部与角部的表面碳浓度差异减小的齿轮。专利文献3中,对位于齿根附近的应力集中部分实施倒角(chamfering)加工,此后实施真空渗碳处理。
专利文献4的目的是抑制渗碳不均的发生。专利文献4中,实施真空渗碳处理之后,将钢部件冷却到Ar3相变点以下。此后,将钢部件再加热至奥氏体化温度区,实施淬火。在专利文献4的图2中,上述冷却时的冷却速度为2℃/秒。
专利文献5的目的是改善晶粒的粗大化,获得具有规定的物性值的被处理物。专利文献5中,在扩散工序与淬火工序之间,使被处理物(工件,workpiece)的温度从第1温度下降到规定温度(正火工序)。接着,将被处理物保持在规定温度。此后,使被处理物的温度上升至第2温度。在专利文献5的图4和图6中,正火工序时的冷却速度为1.5℃/秒。
专利文献6的目的是提供抑制粗大渗碳体的残留,提高耐点蚀性(pitting resistance)的齿轮。在专利文献6中,齿轮的化学组成按质量%计含有C:0.10~0.30%、Si:1.0~1.5%、Mn:0.20~1.5%、Cr:0.31%以下、Mo:0.1~1.0%,余量由Fe和不可避免的杂质构成。将上述齿轮加热至Ac3点以上,实施真空渗碳处理,在齿轮的表层上形成具有1质量%以上的碳浓度的渗碳层。此后,将齿轮冷却至Ar1点以下的温度。
现有技术文献
专利文献
专利文献1:国际公开第2009/131202号
专利文献2:日本特开2007-291486号公报
专利文献3:日本特开2006-349055号公报
专利文献4:日本特开2000-129418号公报
专利文献5:日本特开2008-81781号公报
专利文献6:日本特开2009-57597号公报
专利文献7:日本特开2008-223060号公报
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