[发明专利]结构化叠层转印膜和方法

说明书

背景技术

玻璃基板上的纳米结构和微观结构用于显示、照明和太阳能装置中的多种应用。在显示装置中，所述结构可用于光提取或光分布。在照明装置中，所述结构可用于光提取、光分布和装饰效果。在光伏器件中，所述结构可用于太阳能聚集和减反射。在大的玻璃基板上图案化或换句话讲形成纳米结构和微观结构可能困难且成本效益不高。因此，需要以成本效益高的方式在连续载体膜上制造纳米结构和微观结构，然后使用该膜将所述结构转印或换句话讲赋予到玻璃基板或其它永久受体基板上。

发明内容

符合本发明的第一叠层转印膜可用于转印开放面结构化层。该转印膜包括具有可剥离表面的载体基板、被施加到所述载体基板的可剥离表面、并且具有非平面结构化表面的牺牲模板层以及被施加到所述牺牲模板层的非平面结构化表面的热稳定的回填层。所述牺牲模板层能够从所述回填层去除，同时基本上完整地保留所述回填层的结构化表面。

符合本发明的第二叠层转印膜可用于转印嵌入式结构化层。该转印膜包括具有可剥离表面的载体基板、被施加到所述载体基板的可剥离表面的牺牲可剥离层、被施加到所述牺牲可剥离层的顶层以及被施加到所述顶层的回填层，在所述顶层与回填层之间形成结构化界面。所述牺牲可剥离层能够从所述顶层去除，同时基本上完整地保留所述回填层和所述顶层。

符合本发明的第三叠层转印膜可用于在不使用载体基板的情况下转印结构化层。该转印膜包括具有非平面结构化表面的牺牲聚合物层以及被施加到所述牺牲聚合物层的非平面结构化表面的热稳定的回填层。所述回填层具有与所述牺牲聚合物层的非平面结构化表面对应的结构化表面。所述牺牲聚合物层能够被干净地烘除，同时基本上完整地保留所述回填层的结构化表面。

附图说明

附图包含在本说明书中并构成本说明书的一部分，并且它们结合具体实施方式阐明本发明的优点和原理。在这些附图中，

图1是将开放面纳米结构转印到受体的转印膜和方法的示意图；

图2是在不使用衬片或载体基板的情况下将纳米结构转印到受体的转印膜和方法的示意图；

图3是将嵌入式纳米结构转印到受体的转印膜和方法的示意图；

图4是在玻璃基板上带有纳米结构的底发射AMOLED的示意图；

图5是在平整化层上带有纳米结构的底发射AMOLED的示意图；

图6是在平整化层上带有纳米结构的顶发射AMOLED的示意图；

图7是将纳米结构化抗蚀剂层转印到受体基板，然后蚀刻基板的转印膜和方法的示意图；

图8是经由挤出复制制备结构化叠层转印膜的方法的示意图；

图9A是带有纳米结构的底发射OLED固态照明装置的示意图；

图9B是带有纳米结构的底发射OLED固态照明装置的示意图；

图10是带有纳米结构的顶发射OLED固态照明装置的示意图；

图11是在两个主表面上均带有叠层转印膜的底发射OLED固态照明基板的示意图；

图12是在两个主表面上均带有结构的底发射OLED固态照明基板的示意图；

图13是卷筒形式的柔性玻璃叠层基板组件的示意图；

图14是在两个主表面上均带有结构的柔性玻璃基板的示意图；

图15A是在玻璃基板上带有纳米结构的顶发射AMOLED的示意图；

图15B是在玻璃基板上带有纳米结构的顶发射OLED固态照明装置的示意图；

图16是来自实例2的纳米结构化玻璃表面的侧截面图像；

图17是来自实例4的纳米结构化玻璃表面的侧截面图像；以及

图18是来自实例5的纳米结构化玻璃表面的侧截面图像。

具体实施方式

描述了结构化叠层转印膜和方法，其能够利用叠层和烘除步骤制造结构化固体表面。所述方法涉及热塑性复制(热压印)牺牲膜、层或涂层以便形成结构化牺牲层，利用热稳定材料将牺牲层基本上平面化，将涂布的膜叠层到热稳定受体基板，以及热解或燃烧牺牲层。