[发明专利]确定聚焦的方法、检查设备、图案形成装置、衬底以及器件制造方法

说明书

相关申请的交叉引用

本申请要求于2012年6月22日递交的美国临时申请61/663,115的权益，还要求于2012年12月20日递交的美国临时申请61/740,406的权益，该申请的全部内容一并在此作为参考。

技术领域

本发明涉及用于确定可以例如用于在通过光刻技术制造器件过程中的光瞳平面检测或暗场散射测量中使用的光刻设备的聚焦的方法和设备，并且涉及使用光刻技术制造器件的方法。

背景技术

光刻设备是一种将所需图案应用到衬底上，通常是衬底的目标部分上的机器。例如，可以将光刻设备用在集成电路(IC)的制造中。在这种情况下，可以将可选地称为掩模或掩模版的图案形成装置用于生成待形成在所述IC的单层上的电路图案。可以将该图案转移到衬底(例如，硅晶片)上的目标部分(例如，包括一部分管芯、一个或多个管芯)上。通常，图案的转移是通过把图案成像到设置在衬底上的辐射敏感材料(抗蚀剂)层上进行的。通常，单个的衬底将包含被连续形成图案的相邻目标部分的网络。已知的光刻设备包括：所谓的步进机，在所谓的步进机中，每个目标部分通过一次将整个图案曝光到目标部分上来辐照每个目标部分；以及所谓的扫描装置，在所谓的扫描装置中，通过辐射束沿给定方向(“扫描”方向)扫描所述图案、同时沿与该方向平行或反向平行的方向同步扫描所述衬底来辐照每个目标部分。也可以通过将图案压印到衬底上来将图案从图案形成装置转移到衬底上。

在光刻过程中，经常期望对所生成的结构进行测量，例如用于过程控制和验证。用于进行这种测量的多种工具是已知的，包括经常用于测量临界尺寸(CD)的扫描电子显微镜以及用于测量光刻设备的重叠(在器件中两个层的对准精度)和离焦的专用工具。近来，用于光刻领域中的各种形式的散射仪已经被研制。这些装置将辐射束引导到目标结构(例如光栅)上并测量被散射的辐射的一种或更多种性质(例如作为波长的函数的在单个反射角处的强度；作为反射角的函数的在一个或更多个波长处的强度；或作为反射角的函数的偏振)以获得“光谱”，根据该“光谱”，可以确定目标的感兴趣的性质。感兴趣的性质的确定可以通过各种技术来进行：例如通过迭代方法来重建目标结构，例如严格耦合波分析或有限元方法，库搜索以及主分量分析。

由常规的散射仪所使用的目标是相对大的(例如40μm×40μm)光栅，测量束生成比光栅小的光斑(即光栅被欠填充(underfilled))。这简化了目标的数学重建，因为其可以被看成是无限的。然而，为了减小目标的尺寸，例如减小到10μm×10μm或更小，例如，于是它们可以被定位于产品特征之中而不是划线中，已经提出光栅被制成得比测量光斑更小的量测(即光栅被过填充(overfilled))。典型地，这种目标使用暗场散射术进行测量，在暗场散射术中，第零衍射级(对应于镜面反射)被挡住，仅仅更高的衍射级被处理

使用衍射级的暗场检测的基于衍射的重叠使得能够在更小的目标结构上进行重叠测量。这些目标可以小于照射光斑，并且可以被晶片上的产品结构围绕。多个目标可以在一个图像中被测量。

在已知的量测技术中，重叠测量的结果通过在旋转目标或改变照射模式或成像模式以分别地获得-1^st和+1^st散射仪信号(在该示例中是衍射级的强度)的同时在一定条件下测量目标结构两次来获得。对于给定的光栅比较这些强度，提供光栅中的不对称度的测量。

一对堆叠的光栅结构中的不对称度可以用作重叠误差的指示器。类似地，聚焦敏感光栅中的不对称度可以用作散焦的指示器。光刻设备形成的聚焦敏感目标结构可以具有至少一个特征，其具有依赖于衬底上的光刻设备的聚焦的不对称度的轮廓。通过使用目标中的与用于获得重叠测量结果的测量相同的不对称度的测量，可以获得聚焦测量结果。因此获得的不对称度与散焦相关。所测量的不对称度和散焦之间的关系可以通过实验确定。

然而，散射仪光瞳中的导致散射仪光瞳中的不对称度改变的任何影响将归因于扫描装置散焦。

发明内容

期望提高聚焦测量的精确度。此外，虽然本发明不限于此，但是如果本发明可以应用于可以用基于暗场图像的技术读出的小的目标结构也是非常有利的。