[发明专利]分面反射镜

权利要求书

1.一种投射曝光设备(1)的照明光学单元(4)的光瞳分面反射镜(14)，包括多个光瞳分面(14a)，其中，所述光瞳分面(14a)分别设有抑制在一特定限制频率以上的空间频率的装置，其中，抑制在一特定限制频率以上的空间频率的装置涉及用于照明物场的照明辐射，其中光瞳分面(14a)仅在交叉扫描方向上具有作为目标的离焦或其中光瞳分面(14a)具有用于抑制空间频率的散射函数。

2.如权利要求1的光瞳分面反射镜(14)，其特征在于，所述散射函数为一维散射函数。

3.如权利要求1的光瞳分面反射镜(14)，其特征在于，所述散射函数具有至少0.1mrad的散射角度(σ)。

4.如权利要求1所述的光瞳分面反射镜(14)，其特征在于，光瞳分面的作为目标的离焦通过适当选择光瞳分面(14a)的曲率半径而实现。

5.如权利要求1所述的光瞳分面反射镜(14)，其特征在于，光瞳分面的作为目标的离焦通过使用超环面光瞳分面(14a)而实现。

6.如上述权利要求中任一项所述的光瞳分面反射镜(14)，其特征在于，所述光瞳分面(14a)构造成使得在扫描方向上的折射能力准确满足蝇眼聚光条件。

7.一种投射曝光设备(1)中照明物场(5)的照明光学单元(4)，包括：

a.场分面反射镜(13)；及

b.如权利要求1至6中任一项所述的光瞳分面反射镜(14)；

c.其中，所述场分面反射镜(13)至少在各区域中具有一结构，该结构在至少一个方向上具有至少0.2mm^-1的空间频率。

8.如权利要求7的照明光学单元(4)，其特征在于，抑制所述光瞳分面反射镜(14)的光瞳分面(14a)的空间频率的装置与所述场分面反射镜(13)的场分面(13a)的结构相配，使得所述结构的空间频率在所述物场(5)的区域中具有至多1％的对比度。

9.如权利要求7或8的照明光学单元(4)，其特征在于，所述场分面反射镜(13)的结构形成二元相位光栅。

10.如权利要求9的照明光学单元(4)，其特征在于，所述二元相位光栅具有沟槽深度(d)，所述沟槽深度正好对应于要被阻挡的波长(λ_ex)的四分之一。

11.如权利要求9的照明光学单元(4)，其特征在于，所述二元相位光栅具有光栅周期(p)，所述光栅周期与所述光瞳分面反射镜(14)的光瞳分面(14a)相配，使得具有要被阻挡的波长(λ_ex)的辐射的1^st与-1^st级衍射成像其上的所述光瞳分面反射镜(14)的光瞳分面(14a)邻近所述成像辐射(10)的像位于其上的光瞳分面(14a)。

12.一种EUV投射曝光设备(1)的照明系统，包括：

a.如权利要求7至11中任一项的照明光学单元(4)；及

b.EUV辐射源(3)。

13.一种微光刻的投射曝光设备(1)，包括如权利要求7至11中任一项的照明光学单元(4)。

14.一种微结构或纳米结构组件的制造方法，包括下列步骤：

-提供基板，由感光材料制成的层至少部分地施加在所述基板上；

-提供掩模母版，所述掩模母版具有要成像的结构；

-提供如权利要求13所述的投射曝光设备(1)；

-借助于所述投射曝光设备(1)，将所述掩模母版的至少一部分投射在所述基板的感光层的区域上。

15.一种微结构或纳米结构组件，通过如权利要求14所述的方法制造。