[发明专利]光学薄片、发光装置、光学薄片以及发光装置的制造方法

说明书

技术领域

本发明涉及具备光扩散层的光学薄片以及发光装置，所述光扩散层使入射的光的至少一部分通过衍射而扩散。本发明还涉及光学薄片的制造方法以及发光装置的制造方法。

背景技术

通常，光从高折射率的介质向低折射率的介质传播时，以超过临界角的入射角度入射的光会全反射。因此，例如在有机电致发光等的发光装置中出现如下问题，在层叠的材料的界面，光被全反射，从而光被封闭在发光装置的内部。于是，提出了嵌入如下光学薄片的发光装置，该光学薄片用于将以超过临界角的入射角度入射的光取出到外部。

例如专利文献1公开了随机地配置微小的凹凸构造而形成的光学薄片。在发光装置嵌入这样的光学薄片，将以超过临界角的入射角度入射到光学薄片的光的至少一部分，通过光的衍射现象使光扩散，从而能够取出到外部。

(现有技术文献)

(专利文献)

专利文献1：日本专利第4346680号公报

专利文献2：日本特开2011-118327号公报

专利文献3：日本特开2011-118328号公报

专利文献4：日本专利第4822243号公报

本发明提供能够提高光的取出效率的光学薄片、发光装置、光学薄片的制造方法以及发光装置的制造方法。

发明内容

为了达成所述目标，本发明的一个方案涉及的光学薄片，具备光扩散层，使入射的光的至少一部分通过衍射而扩散，由所述光扩散层扩散的扩散光，以与非扩散光的出射方向不同的方向为中心来扩散，所述非扩散光是不由所述光扩散层扩散而通过的光。

根据本发明的光学薄片，能够将以超过临界角的入射角度入射到光扩散层的光高效地取出到外部，能够提高光的取出效率。

附图说明

图1是表示实施方式1涉及的发光装置的截面图。

图2A是表示实施方式1涉及的光学薄片的平面图。

图2B是表示构成图2A的光学薄片的第一单位构造体以及第二单位构造体的平面图。

图2C是沿着图2A中的A-A线进行了切断的光学薄片的截面图。

图2D是利用纳米印刷技术制造光学薄片的情况下的光学薄片的截面图。

图2E是表示在透明基板的表面形成有光扩散层的情况下的发光装置的一部分的截面图。

图3是表示对图2A的光扩散层的图案进行傅里叶变换的空间频率成分的振幅的图。

图4A是表示光以入射角度θx＝0°入射到光扩散层的情况下，通过计算求出从光扩散层出射的光的扩散图案的结果的图。

图4B是表示光以入射角度θx＝20°入射到光扩散层的情况下，通过计算求出从光扩散层出射的光的扩散图案的结果的图。

图4C是表示光以入射角度θx＝40°入射到光扩散层的情况下，通过计算求出从光扩散层出射的光的扩散图案的结果的图。

图5是表示在对光扩散层的图案进行傅里叶变换而得到的空间频率中，某方位的一维分布的图。

图6是表示对光扩散层的光的透过率的入射角度依存性进行了计算的结果的图。

图7是表示对经由光扩散层向空气层出射的光的总发光量，针对第一微小区域以及第二微小区域的每一个单位大小w的依存性进行了计算的结果的图。

图8A是表示对经由实施方式1的光扩散层出射到空气层的光的总发光量的出射角度依存性进行了计算的结果的图。

图8B是表示对经由以往的光学薄片出射到空气层的光的总发光量的出射角度依存性进行了计算的结果的图。

图9是表示将第一单位构造体以及第二单位构造体的出现概率分别设为75％、25％的情况下的光学薄片的平面图。

图10是表示将图9的光扩散层的图案进行傅里叶变换的空间频率成分的振幅的图。

图11A是表示第一单位构造体的出现概率为100％的情况下，通过对图案进行傅里叶变换而得到的空间频率中，在某方位的一维分布的图。

图11B是表示第一单位构造体的出现概率为80％的情况下，通过对图案进行傅里叶变换而得到的空间频率中，在某方位的一维分布的图。

图11C是表示第一单位构造体的出现概率为70％的情况下，通过对图案进行傅里叶变换而得到的空间频率中，在某方位的一维分布的图。

图11D是表示第一单位构造体的出现概率为60％的情况下，通过对图案进行傅里叶变换而得到的空间频率中，在某方位的一维分布的图。