[发明专利]具有内反射的反射层的透镜有效

专利信息
申请号: 201380018686.0 申请日: 2013-04-29
公开(公告)号: CN104204897B 公开(公告)日: 2017-05-03
发明(设计)人: 斯特凡·哈德拉斯;乌尔里希·哈特维格;亨宁·伦恩 申请(专利权)人: 欧司朗有限公司
主分类号: G02B19/00 分类号: G02B19/00;F21S8/10;F21V9/00;H04N9/31
代理公司: 北京康信知识产权代理有限责任公司11240 代理人: 余刚,李慧
地址: 德国*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 具有 反射 反射层 透镜
【权利要求书】:

1.一种具有透明的基体(13;43;53)的透镜,其中

-所述基体(13;43;53)的表面至少部分地敷设有内反射的反射层(17),

-所述透镜具有至少一个第一焦点(F1)和至少一个第二焦点(F2),

-至少所述第一焦点(F1)至少部分地位于所述基体的未经敷设的表面区域上,并且

-至少一个荧光材料元件(18)贴靠在接触区域(19)处的所述基体(13;43;53)上,所述接触区域具有至少一个第一焦点(F1)。

2.根据权利要求1所述的透镜,其中,所述反射层(17)至少对于由至少一个所述荧光材料元件(18)产生的次级光(S)是反射的。

3.根据权利要求1或2所述的透镜,其中,所述基体的所述表面具有敷设有所述反射层(17)的、带有椭圆的基本形状的罩面(14),并且具有在主平面(H)中延伸的平坦的基面(15),所述第一焦点(F1)和所述第二焦点(F2)位于所述基面(15)中。

4.根据权利要求1或2所述的透镜,其中,所述基体的所述表面具有敷设有所述反射层(17)的、带有椭圆形的基本形状的罩面(54),并且具有部分在主平面中延伸的、切割的基面(55),至少一个焦点(F1,F2)在所述基面中位于切割边缘(K1,K2)上或位于切割边缘(K1,K2)的附近。

5.根据权利要求1或2所述的透镜,其中,所述基体的所述表面具有敷设有所述反射层(17)的、带有椭圆形的基本形状的罩面(14),并且具有倾斜的基面(45),在所述基面(45)中,互补的第一焦点(F1)和第二焦点(F2)位于彼此相对地倾斜的区域(45a,45b)上。

6.根据权利要求1或2所述的透镜,其中所述基体(13;43;53)具有脱耦区域(20a),所述脱耦区域具有至少一个第二焦点(F2)。

7.根据权利要求1或2所述的透镜,其中所述反射层(17)具有至少一个窗口(16;46),所述窗口能够使光照射到至少一个第一焦点(F1)上。

8.根据权利要求7所述的透镜,其中所述透镜在至少一个所述窗口的区域中具有与所述窗口的周围的基本形状局部偏离的、用于使入射的光(P)聚焦到第一焦点(F1)上的聚焦区域(47)。

9.根据权利要求1或2所述的透镜,其中,所述透镜(12;32;42;52)具有多个所述第一焦点(F1)和多个所述荧光材料元件(18),其中所述荧光材料元件(18)贴靠在所述接触区域(19)上,所述接触区域具有至少一个相应的第一焦点(F1)。

10.一种发光装置(11;31;41;51),具有

-至少一个根据前述权利要求中任一项所述的透镜,以及

-至少一个光源,用于使初级光(P)贯穿过所述透镜的基体照射到至少一个第一焦点(F1)上,

-其中,布置在至少一个所述第一焦点处的至少一个所述荧光材料元件(18)设置用于,使所述初级光(P)至少部分地转换为具有不同波长的次级光(S)。

11.根据权利要求10所述的发光装置(11;31;41;51),其中,所述光源是半导体光源(21)。

12.根据权利要求10所述的发光装置(11;31;41;51),其中,所述发光装置(11;31;41;51)具有多个所述透镜(12;32;42;52)。

13.根据权利要求12所述的发光装置(11;31;41;51),其中,多个所述透镜是矩阵状布置的透镜。

14.根据权利要求10至13中任一项所述的发光装置(11;31;41;51),具有至少一个所述透镜,所述透镜的基体具有脱耦区域(20a),所述脱耦区域具有至少一个第二焦点(F2),其中,在至少一个所述脱耦区域(20a)处布置脱耦光学件(20)。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于欧司朗有限公司,未经欧司朗有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201380018686.0/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top