[发明专利]MEMS扫描镜视场提供方法和装置

说明书

技术领域

本公开的实施例一般涉及光电子领域，并且更具体地涉及MEMS扫描镜视场提供。

背景技术

光电子系统(诸如激光扫描器、投影器、及其它激光设备)的构造中的一项基本设计考虑在于包括在系统中的扫描镜所提供的激光光束的受控偏转的允许的视场(FOV)。该FOV受系统的机械形状因子(物理尺寸)的限制。例如，嵌入在移动设备中的激光投影器单元可能有严格的大小限制以便适合于移动设备。因此，可考虑在投影的方向上严格的大小限制来设计投影器单元，以允许将设计的单元嵌入在移动设备中。在另一方面，由于例如移动设备中投影器单元的短的使用距离，具有相对大的FOV的投影器单元可能是合期望的。激光设备的小形状因子和大FOV要求的组合可以对设计者提出挑战。用于构建具有形状因子限制的激光设备的解决方案之一可以使用微机电系统(MEMS)扫描镜，针对特定机械形状蚀刻的硅设备。然而，诸如具有MEMS扫描镜的投影器单元之类的激光设备可以由于以上所描述的机械约束而具有非常有限的FOV。

附图说明

通过以下的详细描述与附图结合将容易地理解实施例。为了促进该描述，相同的附图标记表示相同的结构元件。通过示例的方式而非通过限制的方式在附图的图中示出实施例。

图1示意性地图示根据一些实施例的包括光电子组件的示例性光电子设备。

图2示意性地图示根据一些实施例的包括在图1的光电子组件中的MEMS扫描镜的示例性横截面顶视图。

图3示意性地图示根据一些实施例的图2的MEMS扫描镜的一些部件的侧视图。

图4和5示意性地图示根据一些实施例的两个示例性MEMS扫描镜的透视图。

图6示意性地图示根据一些实施例的示例性光电子组件的示图。

具体实施方式

本公开的实施例包括用于MEMS扫描镜视场提供的技术和配置。

在下面的详细描述中，参考了形成其部分的附图，其中相同的附图标记由始至终指定相同的部分，并且其中以图示的方式示出其中可以实践本公开的主题的实施例。应当理解的是，其它实施例可以被利用，并且在不背离本公开的范围的情况下，可以进行结构上或逻辑上的改变。因此，以下的详细描述不应被理解成具有限制意义，并且实施例的范围由所附的权利要求及其等同物限定。

为了本公开的目的，短语“A和/或B”意为(A)、(B)或(A和B)。为了本公开的目的，短语“A、B和/或C”意为(A)、(B)、(C)、(A和B)、(A和C)、(B和C)或(A、B和C)。

该描述可以使用基于透视的描述，如顶部/底部，内/外，上/下等。这样的描述仅仅用来促进讨论并不旨在将本文所描述的实施例的应用限制成任何特定的方位。

该描述可以使用短语“在实施例中”，“在多个实施例中，”其可各自是指一个或多个相同或不同的实施例。此外，如关于本公开的实施例所使用的术语“包含”、“包括”、“具有”等是同义的。

术语“耦合于”连同其派生词可以在此使用。“耦合”可意为下述的一个或多个。“耦合”可意为两个或更多元件直接物理、电气或光学接触。然而，“耦合”也可意为两个或多个元件间接地彼此接触，但仍彼此协作或交互，并且可意为一个或多个其它元件耦合或连接在据说要被彼此耦合的元件之间。术语“直接耦合”可以意为两个或更多元件直接接触。

在各种实施例中，短语“在第二特征上形成、放置、或以其它方式布置的第一特征，”可意为第一特征形成、放置、或布置在所述第二特征之上，且所述第一特征中的至少一部分可以与第二特征中的至少一部分直接接触(例如，直接的物理和/或电接触)或间接接触(例如，在第一特征和第二特征之间具有一个或多个其它特征)。