[发明专利]防伪标签及其生产方法

说明书

技术领域

本发明涉及一种根据权利要求1的前述特征部分所限定的防伪载体，以及一种生产防伪载体的方法。

背景技术

对用于产品、文件和鉴定的防伪保护，使用光学可变元件。光学可变元件包含有分辨率非常高的结构，其会产生特殊的光学效果。这样的结构是难以复制的，并且通常无法通过常见的印刷技术来制造。光学可变元件可以包含裸眼可见和验证的结构，也可以包含可用简单或专门读取设备检验的结构。光学可变元件是公知的，并且可按照多种方式使用。光学可变元件包括，例如，全息图，影像图(cinegram)和光刻图(lithograms)。光学可变元件中包含的结构可以是全息图，特殊彩虹全息图(special rainbow hologram)，透射全息图，反射全息图，二维全息图，三维全息图，傅立叶全息图，菲涅耳全息图，体积全息图以及开诺全息图(kinoforms)。这样的全息图可以直接光学产生，或者可用计算机进行计算。此外，可以包含衍射结构，特别是衍射光栅。可以包含折射结构，如菲涅耳透镜或闪光光栅。可以包含散射元件，如散射器。文献中描述了众多其它可以包含在光学可变元件中的结构。各种结构可以部分重叠，以便能够在光学可变元件的相同区域提供两种或更多种的效果。各种结构可以用于配置成图形元件，例如扭索饰，标识，图像，线，面等。也可进一步配置字符元素，诸如字母，数字或字母数字序列号，微缩说明(microscripts)。也可进一步配置功能性元件，如条形码或其它机器可读的结构。各种结构和元素以合适的方法组合，形成可变光学元件的整体设计，尽可能满足可变光学元件的安全性、，功能性和美学印象等所有要求。

光学可变元件可以用复型工艺(replication process)来制造。为此，精心制作一个具有特殊整体设计的主压花模具。这样的主压花模具可通过电子束光刻法或者通过点阵法(dot-matrix method)制造，在这种情况下，可以实现高的分辨率。在电子束光刻法的情况下，可以实现小至几纳米的分辨率。在点阵法或其它干涉方法的情况下，可以产生小至几百纳米光栅常数的衍射光栅。由此可从主压花模具来生产复制品压花模具，并可进一步由其生产复制品压花模具。然后，在压印过程中使用该压花模具以压印大量的光学可变元件。在这样的压印工艺中，所产生的光学可变元件基本上都是一样的。

EP0420261B1是最接近的现有技术，其公开了一种方法，其中，通过在压印工艺的不同点进行修饰，引入个性化措施，以使压印工艺制备的光学可变元件更加安全，并且在光学可变元件中引入附加数据。以这种方式，批次信息或序列号信息可以添加到该光学可变元件中。然而，所述的个性化方法受限制且涉及到在原设计中特定区域的破坏、桥接(bridging)或停用，由于原始设计无法通过上述措施改造。特别是，通过所述的个性化方法，不可能产生全息、衍射或其他光学可变的独立结构。

发明内容

本发明的目的在于使载体具有更好的防伪能力，并提供它们的生产方法。

关于制品，该目的是通过具有权利要求1的特征的防伪载体来实现的。优选的改进是制品从属权利要求的主题。

根据本发明的防伪载体可以具有多种构造。特别地，其可以配置为自粘标签或者为热密封材料。所述标签形状、或热密封模具的形状可以是任何所需的形状，例如圆形，椭圆形，多边形，圆角多边形等。在热密封材料的情况下，整体设计也可配置为长条带形，密封到基板的整个长度上。这种条带可通过入境卡、运输季票或钞票而已知。令人惊讶地，已经发现当该光学可变元件具有非独立压花结构，并且所述至少一个光学可变元件还具有分辨率小于20微米的独立激光光刻结构时，所述光学可变元件的载体的防伪安全性可提高。根据本发明的防伪载体包括至少一个金属化层，优选地，所述非独立压花结构以及独立激光光刻结构被引入到相同的金属化层。通过在同一光学可变元件中组合地引入非独立压花结构和独立激光光刻结构，对其复制变得相当困难。

为此，所述光刻结构的分辨率为小于20微米，优选小于5微米。在这种情况下，小于20微米或5微米的分辨率意味着该结构组件具有小于20微米或5微米的延伸长度，和小于20微米或5微米的彼此间距。优选在每个组件上遵守这些延伸长度和间距，但至少在多个组件上遵守这些延伸长度和间距。在通过激光将像素引入到所述金属化层的情况下，这个分辨率意味着单个像素的直径应该小于20微米或5微米，像素彼此间的间距应该小于20微米或5微米。

术语载体在本申请应按广义理解，并且可以包括可变形条带，特别是条带状的多层膜，胶带，但也可是硬条带。