[发明专利]防伪标签及其生产方法

权利要求书

1.一种具有至少一个金属化层(2)的防伪载体(1)，在其中引入有至少一个光学可变元件(6)，并且所述至少一个光学可变元件(6)具有非独立的压花结构(A)，其特征在于：

所述至少一个光学可变元件(6)具有独立的激光光刻结构(B)，该激光光刻结构具有小于20微米的分辨率。

2.如权利要求1所述的防伪载体(1)，其特征在于，所述分辨率小于5微米。

3.如权利要求1或2所述的防伪载体(1)，其特征在于：所述将压花结构(A)和所述激光光刻结构(B)引入到同一金属化层(2)。

4.如权利要求1、2或3所述的防伪载体(1)，其特征在于：所述压花结构(A)和所述激光光刻结构(B)至少在一些子区域重叠。

5.如权利要求1至4中至少一项所述的防伪载体(1)，其特征在于，所述压花结构(A)和所述激光光刻结构(B)彼此精确配合的布置。

6.如权利要求1至5中至少一项所述的防伪载体(1)，其特征在于，所述激光光刻结构(B)至少在子区域(10)至少局部地脱金属化。

7.如权利要求6所述的防伪载体(1)，其特征在于，所述子区域(10)完全脱金属化。

8.如权利要求6或7所述的防伪载体(1)，其特征在于，所述子区域(10)作为光栅脱金属化。

9.如权利要求8所述的防伪载体(1)，其特征在于，在子区域(10)中，所述脱金属化的栅格化是逐渐增大的。

10.如前述权利要求中的至少一项所述的防伪载体(1)，其特征在于，所述光学可变元件(6)在子区域(10)中是透明的。

11.一种具有至少一个金属化层(2)的防伪载体(1)的制造方法，其通过以下步骤制造

压花加工一种非独立的压花结构(A)到所述金属化层(2)内和借助于激光将独立的激光光刻结构(B)光刻曝光到金属化层(2)内，

以小于20微米的分辨率曝光所述光刻结构(B)，

由压花结构(A)和所述光刻结构(B)一起形成所述至少一个光学可变元件(6)。

12.如权利要求11所述的方法，其特征在于，非独立的压花结构(A)首先沿着所述载体(1)压花到所述金属化层(2)内，然后，独立的激光光刻结构(B)曝光到所述金属化层(2)内。

13.如权利要求11所述的方法，其特征在于，独立的激光光刻结构(B)首先沿所述载体(1)曝光到金属化层(2)内，随后，非独立的压花结构(A)压花到所述金属化层(2)内。

14.如权利要求11、12或13中至少一项所述的方法，其特征在于，所述激光光刻结构(B)和所述压花结构(A)彼此精确配合的引入到金属化层(2)内。

15.如权利要求11至14中至少一项所述的方法，其特征在于，所述光刻结构(B)的子区域(11)脱金属化到透明的程度，所述压花结构(A)的子区域相对于所述透明子区域(10)布置，使它们通过透明子区域(10)闪光。

16.如权利要求11至15中至少一项所述的方法，其特征在于，所述载体(1)是在所述光学可变元件(6)之间分离的，并且将所述光学可变元件(6)应用到制品、特别是包装上。

17.如权利要求16所述的方法，其特征在于，所述光学可变元件(6)设有透明子区域(11)，并且所述制品的表面标识透过所述透明子区域(10)闪光。