[发明专利]荧光体及其制备方法、发光装置及图像显示装置有效
申请号: | 201380004652.6 | 申请日: | 2013-05-30 |
公开(公告)号: | CN104024375B | 公开(公告)日: | 2017-05-24 |
发明(设计)人: | 广崎尚登;武田隆史;舟桥司朗 | 申请(专利权)人: | 国立研究开发法人物质·材料研究机构 |
主分类号: | C09K11/59 | 分类号: | C09K11/59;C09K11/08;C09K11/63;C09K11/64;H01J1/63;H01L33/50 |
代理公司: | 北京市磐华律师事务所11336 | 代理人: | 董巍,谢栒 |
地址: | 日本茨城县*** | 国省代码: | 暂无信息 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 荧光 及其 制备 方法 发光 装置 图像 显示装置 | ||
1.一种荧光体,至少包含含有A元素、D元素、和X元素或根据需要含有E元素的由Sr3Si8O4N10所示的结晶、或具有与Sr3Si8O4N10所示的结晶相同的结晶结构的无机结晶中固溶有M元素的无机化合物,其中,A为选自Li、Ca、Sr的一种或两种以上的元素;D为Si;X为选自O、N的一种或两种的元素;E为选自B、Al的一种或两种的元素,M为选自Mn、Ce、Pr、Nd、Sm、Eu、Tb、Dy、Yb的一种或两种以上的元素;
具有与所述Sr3Si8O4N10所示的结晶相同的结晶结构的无机结晶为单斜晶系的结晶,并且具有空间群P21/n的对称性,晶格常数a、b、c为
a=0.48170±0.05nm
b=2.42320±0.05nm
c=1.05600±0.05nm
的范围的值。
2.根据权利要求1所述的荧光体,其中,
具有与所述Sr3Si8O4N10所示的结晶相同的结晶结构的无机结晶是其组成为A3(D,E)8X14所示的结晶,
所述由A3(D,E)8X14所示的结晶,至少在A元素中包含Sr或Ca,或根据需要在E元素中包含Al,在X元素中包含N,根据需要在X元素中包含O。
3.根据权利要求1所述的荧光体,其中,
具有与所述Sr3Si8O4N10所示的结晶相同的结晶结构的无机结晶是Sr3Si8O4N10、Ca3Si8O4N10、或(Sr,Li)3Si8O4N10。
4.根据权利要求1所述的荧光体,其中,
具有与所述Sr3Si8O4N10所示的结晶相同的结晶结构的无机结晶由Sr3Si8-xAlxN10-xO4+x、Ca3Si8-xAlxN10-xO4+x、或(Sr,Li)3Si8-xAlxN10-xO4+x的组成式表示,其中,0≦x≦8。
5.根据权利要求1所述的荧光体,其中,
所述M元素为Eu。
6.根据权利要求1所述的荧光体,其中,
所述无机化合物由组成式MdAeDfEgXh所表示,并且由参数d、e、f、g、h满足
0.00001≦d≦0.05
0.05≦e≦0.3
0.15≦f≦0.4
0≦g≦0.15
0.45≦h≦0.65
的所有条件的范围的组成所表示,其中,公式中d+e+f+g+h=1,并且M为选自Mn、Ce、Pr、Nd、Sm、Eu、Tb、Dy、Yb的一种或两种以上的元素。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于国立研究开发法人物质·材料研究机构,未经国立研究开发法人物质·材料研究机构许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201380004652.6/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种中空纤维膜堵头加工工艺
- 下一篇:一种新型门把