[实用新型]一种电子束低温发热测量系统有效

专利信息
申请号: 201320811554.0 申请日: 2013-12-10
公开(公告)号: CN203720119U 公开(公告)日: 2014-07-16
发明(设计)人: 崔剑;许皆平;张正臣;李明;徐俊杰;郁静芳;樊勇;季现凯;江勇 申请(专利权)人: 中国科学院上海应用物理研究所
主分类号: G01N25/20 分类号: G01N25/20;G01K17/00;G01K7/22
代理公司: 上海智信专利代理有限公司 31002 代理人: 邓琪
地址: 201800 上*** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 一种 电子束 低温 发热 测量 系统
【权利要求书】:

1.一种电子束低温发热测量系统,用于测量电子束在真空、低温环境下的发热量,其特征在于,该系统包括:

真空室;

位于所述真空室内以供所述电子束穿过的冷屏;

位于所述冷屏内并用于接收所述电子束的发热量的金属板;

若干设置在所述金属板上的低温传感器;

位于所述真空室外并与所述低温传感器连接的温度检测仪;

用于保持所述真空室内的真空环境的真空泵;以及

用于保持所述真空室内的低温环境的制冷机。

2.根据权利要求1所述的电子束低温发热测量系统,其特征在于,所述制冷机包括连接至所述冷屏的一级冷头以及连接至所述金属板的二级冷头。

3.根据权利要求2所述的电子束低温发热测量系统,其特征在于,所述一级冷头法兰连接至所述冷屏。

4.根据权利要求1所述的电子束低温发热测量系统,其特征在于,所述冷屏固定安装在所述真空室的内壁上。

5.根据权利要求1所述的电子束低温发热测量系统,其特征在于,该系统包括至少两个所述金属板,且所述至少两个金属板沿所述电子束平行设置。

6.根据权利要求1-5中任何一项所述的电子束低温发热测量系统,其特征在于,所述金属板为铜板。

7.根据权利要求1-5中任何一项所述的电子束低温发热测量系统,其特征在于,所述真空泵法兰连接至所述真空室。

8.根据权利要求1-5中任何一项所述的电子束低温发热测量系统,其特征在于,所述制冷机法兰连接至所述真空室。

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