[实用新型]一种蒸镀装置有效
申请号: | 201320802641.X | 申请日: | 2013-12-06 |
公开(公告)号: | CN203582959U | 公开(公告)日: | 2014-05-07 |
发明(设计)人: | 赵德江;张家奇 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司 |
主分类号: | C23C14/24 | 分类号: | C23C14/24 |
代理公司: | 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 | 代理人: | 申健 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 装置 | ||
技术领域
本实用新型涉及显示技术领域,尤其涉及一种蒸镀装置。
背景技术
目前,蒸镀工艺被广泛应用于电子器件的镀膜生产过程中,其原理是将待成膜的源材料放置于真空环境中,通过电阻加热或电子束加热使源材料加热到一定温度发生蒸发或升华,气化后的源材料凝结沉积在待成膜的基板表面而完成镀膜。
例如,在有机电致发光显示器(简称OLED)的制备工艺中,需要在蒸镀装置01的腔体10内蒸镀多层有机薄膜,从而在待镀基板30上形成各个有机发光单元。如图1所示,在蒸镀前,需要通过加热器50对蒸镀源20进行加热以使其达到设定的温度,在此过程中,蒸镀源20中的一部分蒸镀材料受热会蒸发出来,由于这部分蒸镀材料没有被加热到预设温度,蒸汽携带的能量不足以使蒸镀材料到达待镀基板30的蒸镀区30a,因而会沉积在靠近蒸镀源20的腔体10内部;在蒸镀源20达到预设温度后,通过设置在待镀基板30与蒸镀源20之间的挡板60,对待镀基板30的蒸镀区30a进行选择性蒸镀;当待镀基板30完成蒸镀后,蒸镀源20停止加热,然而,在蒸镀源20的降温过程中,仍然会有一部分材料受热继续蒸发出来;这样,在蒸镀源20的加热和降温过程中,已经蒸发出来但未参与蒸镀的材料会沉积到腔体10内部对腔体10造成污染,影响下一次蒸镀,从而使得蒸镀质量下降。
实用新型内容
本实用新型的实施例提供一种蒸镀装置,可以改善在蒸镀源的加热和降温过程中,蒸镀源蒸发出来的蒸镀材料沉积到腔体内部引起污染的问题。
为达到上述目的,本实用新型的实施例采用如下技术方案:
本实用新型实施例提供了一种蒸镀装置,包括腔体,设置在所述腔体内的蒸镀源和待镀基板,所述蒸镀装置还包括设置在所述腔体内的蒸镀遮挡装置,所述蒸镀遮挡装置包括:中空的遮挡主体和与所述遮挡主体匹配且固定的遮挡盖;其中,所述遮挡盖设置在所述遮挡主体靠近所述待镀基板的上表面;所述遮挡主体的中空部分的截面面积大于等于所述蒸镀源的面积;在所述蒸镀源的温度达到预蒸镀温度之前、以及蒸镀完成后所述蒸镀源的降温过程中,所述蒸镀遮挡装置设置在所述蒸镀源与所述待镀基板之间,且靠近所述蒸镀源设置。
优选的,所述蒸镀装置还包括冷凝装置、以及设置在所述遮挡主体外表面的加热丝;其中,所述冷凝装置包括设置在所述遮挡盖靠近所述待镀基板的上表面的冷却水管路、与所述冷却水管路相连的冷却水进水管和冷却水出水管、以及与所述冷却水进水管和所述冷却水出水管连接的供水装置。
优选的,所述冷却水管路以盘旋方式均匀的平铺在所述遮挡盖的上表面。
进一步优选的,所述遮挡主体的中空部分的形状为圆柱体;所述遮挡盖包括:一个底面以及与所述底面连接的侧面,且所述底面的面积大于等于所述遮挡主体的截面面积,所述侧面具有外螺纹;其中,所述遮挡主体靠近所述遮挡盖的一侧具有内螺纹,所述遮挡主体上的内螺纹与所述遮挡盖的所述侧面的外螺纹相吻合。
在此基础上优选的,所述冷却水管路固定在所述遮挡盖的上表面。
优选的,所述冷却水管路固定在一个金属板上,所述金属板与所述遮挡盖的上表面固定在一起;其中,所述金属板上包括至少两个均匀分布的固定螺丝孔,与所述金属板对应的所述遮挡盖的上表面上具有相应的固定螺丝孔,所述金属板与所述遮挡盖的上表面通过与所述固定螺丝孔相匹配的螺丝固定。
优选的,所述蒸镀装置还包括:与冷却水进水管和/或冷却水出水管连接的传动丝杠,以及与所述传动丝杠连接的驱动装置。
进一步优选的,所述驱动装置设置在所述蒸镀装置腔体的外部;其中,所述传动丝杠的一部分位于所述腔体内,另一部分位于所述腔体外;所述驱动装置通过与所述驱动装置连接的连接杆与位于所述腔体外的所述传动丝杠连接。
在此基础上优选的,所述冷却水进水管和所述冷却水出水管设置在所述腔体内侧,所述供水装置设置在所述腔体外部;其中,所述供水装置通过穿过所述腔体的第一供水管与所述冷却水进水管相连,通过穿过所述腔体的第二供水管与所述冷却水出水管相连。
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