[实用新型]金属镀膜的二氧化硅玻璃光衰减片

说明书

技术领域：

本实用新型涉及一种金属镀膜的二氧化硅玻璃光衰减片。

背景技术：

光纤通信系统中，光衰减器(Optical Attenuator，OA)是发展最早的无源器件之一。随着宽带光纤通信网络,特别是全光网络的快速发展，各国都投入大量的人力与物力研制性能更高的光衰减器。目前，普遍使用的光纤结构包括中间的纤芯，以及外部依次包裹的包层、涂覆层和保护层，这种结构增加了制作和使用成本，体积大。需要制作体积小、重量轻、精确度高、稳定可靠、使用方便是人们对光衰减器的基本要求的光衰减片。

发明内容：

本实用新型的目的是提供一种金属镀膜的二氧化硅玻璃光衰减片。

上述的目的通过以下的技术方案实现：

一种金属镀膜的二氧化硅玻璃光衰减片，其组成包括：二氧化硅基片，所述的二氧化硅基片表面蒸镀金属膜，所述的金属膜为铝膜、铜膜或铬膜中的一种。

所述的金属镀膜的二氧化硅玻璃光衰减片，所述的金属膜为铝膜时，其表面的粗糙度Ra值为4.076nm；所述的金属膜为铜膜时，其表面的粗糙度Ra值为3.950nm；所述的金属膜为铬膜时，其表面的粗糙度Ra值为7.076nm。

本实用新型的有益效果：

本实用新型的结构简单，在二氧化硅玻璃基片表面蒸镀金属薄膜，因为真空蒸镀金属铝、铜、铬得到薄膜为微米级，蒸镀金属薄膜堆积的颗粒为纳米颗粒，所以其在二氧化硅表面的分布均匀、排列致密、连续性好，得到的蒸镀金属镀膜的光衰减片的透光率在0.06-0.01之间，具有良好的光衰减效果。

附图说明：

附图1是本实用新型的结构示意图。

具体实施方式：

实施例1：

一种金属镀膜的二氧化硅玻璃光衰减片，其组成包括：二氧化硅基片1，所述的二氧化硅基片表面蒸镀金属膜2，所述的金属膜为铝膜、铜膜或铬膜中的一种。

实施例2：

根据实施例1所述的金属镀膜的二氧化硅玻璃光衰减片，所述的金属膜为铝膜时，其表面的粗糙度Ra值为4.076nm；所述的金属膜为铜膜时，其表面的粗糙度Ra值为3.950nm；所述的金属膜为铬膜时，其表面的粗糙度Ra值为7.076nm。

实施例3：

根据实施例1或2所述的金属镀膜的二氧化硅玻璃光衰减片，采用真空蒸发镀膜法制备金属/镀膜的二氧化硅玻璃光衰减片，首先，利用电阻式蒸发源DM-300B型真空镀膜机，保持真空度在1.3×10-2Pa以上，轰击电压为150V-210V，旋转电压为30V-50V，烘烤电压为100V-160V的条件下进行真空蒸镀。其次，完成真空度与源基距的确定：

在室温，气体分子直径时，由气体分子动力学得气体分子平均自由程，可表示为：

                                (1)

式(1)中：k为波尔兹曼常数；n为气体分子密度；气体压强p为Pa时；的单位为cm。当p=1.3×10-1Pa时，=5cm；当p=1.3×10-2Pa时，=50cm；当p=1.3×10-3Pa时，=500cm。

若蒸发出的分子数为z₀，在迁移过程中发生碰撞的分子数为z₁，则发生碰撞的分子占总蒸发分子的比率为：

                           (2)

由式(2)可计算出，当=1×d时，碰撞率为63%；当=10×d时，碰撞率为9%。因此，要想减少甚至避气体分子迁移过程中发生碰撞，必须使平均自由程较源基距大。

本实验采用的DM-300B型镀膜机蒸发源到基片的距离d≈24cm。要求远大于，如果选取远大于50cm，由式(2)可计算出此时真空度高于Pa。因此将真空镀膜室抽至Pa以上真空度，方可蒸制得到牢固纯净的薄膜。