[实用新型]一维面内位移相移电子散斑干涉仪有效
申请号: | 201320670281.2 | 申请日: | 2013-10-28 |
公开(公告)号: | CN203534533U | 公开(公告)日: | 2014-04-09 |
发明(设计)人: | 李鹰 | 申请(专利权)人: | 卓力特光电仪器(苏州)有限公司 |
主分类号: | G01B11/02 | 分类号: | G01B11/02;G01B11/16;G01B9/02 |
代理公司: | 苏州创元专利商标事务所有限公司 32103 | 代理人: | 范晴 |
地址: | 215000 江苏省苏*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一维面内 位移 相移 电子 干涉仪 | ||
技术领域
本实用新型涉及一种散斑干涉仪,具体涉及一种一维面内位移相移电子散斑干涉仪。
背景技术
相移电子散斑干涉(ESPI)技术是继光弹性和全息干涉等光测力学方法之后发展起来的一种实验力学新方法。它直接依靠激光干涉和计算机获得干涉条纹。这种方法在工程上已得到了较广泛的运用,可用于解决工程中的强度和刚度问题,并可用于残余应力测量。光弹仪在测量时需要制作特定的模板,且对模板材料的要求高。全息干涉法需要对拍摄的照片进行复杂的湿处理过程,在操作上不方便执行。
而且,现有的一些仪器在使用电子散斑干涉技术的面内位移测量时需要重新搭建光路,由于对精度要求高,调试起来比较困难,并且容易受外界环境的影响。
发明内容
本实用新型目的是:针对上述问题,提供一种结构简单、测量精度高、测量速度快的一维面内位移相移电子散斑干涉仪。
本实用新型的技术方案是:一种一维面内位移相移电子散斑干涉仪,它包括水平布置的光学平台,该光学平台的台面上布置有:用于固定受检物的测试架、激光发射装置、以及CCD摄像机,所述CCD摄像机与计算机电连接,所述测试架上设置有用于向所述受检物施加荷载的加载装置,
所述的激光发射装置包括固定在所述光学平台上的壳体、以及设于该壳体内的激光器和分光棱镜,所述壳体上面设置有与该壳体内部相连通的第一反射镜套筒和第二反射镜套筒,所述第一反射镜套筒中安装有第一反射镜,所述第二反射镜套筒中安装有第二反射镜,
所述分光棱镜接收所述激光器发射的激光束并将该激光束一分为二,由分光棱镜分出的这两条光束分别经过所述第一反射镜和第二反射镜的反射后,射向所述受检物。
所述壳体内安装有两个反射镜,由所述分光棱镜分出的两条光束先射向这两个反射镜,再由这两个反射镜分别反射到所述第一反射镜和第二反射镜。
所述反射镜通过一反射镜座可旋转地安装在所述壳体内。
所述CCD摄像机固定安装在所述壳体外部。
所述光学平台上布置有将所述测试架、激光发射装置、以及CCD摄像机收容在其内的防尘罩。
所述激光器为523nm固体绿光激光器。
所述激光器长30mm,宽50mm,高150mm。
所述壳体通过螺钉可拆分地固定在所述光学平台上。
所述激光器的激光出射端设有一扩束镜。
本实用新型的优点是:
1、本实用新型这种干涉仪将其主要部件集中布置在一壳体中,并将CCD摄像机固定在所述壳体上,从而使得本仪器具有结构简单合理、体型轻小、携带方便的特点。
2、本实用新型这种干涉仪的实验无须在暗室中即可进行。
3、本实用新型的种干涉仪仪器结构合理、轻巧、美观、同时具有良好的刚度及调节方便的特点。
4、仪器中的光学部件的设计、加工非常考究,各反射镜是专门针对532nm波长的激光而设计的,反射率可达99.9%,真空镀硬膜,具有耐磨损,耐腐蚀等优点。
附图说明
下面结合附图及实施例对本实用新型作进一步描述:
图1为本实用新型实施例中干涉仪的结构示意图,其中未示出计算机;
图2为本实用新型实施例中干涉仪的局部结构示意图一;
图3为本实用新型实施例中干涉仪的局部结构示意图二;
图4为本实用新型实施例中干涉仪的局部结构示意图三;
图5为本实用新型实施例中干涉仪的光路原理图;
其中:1-光学平台,2-测试架,3-激光发射装置,31-壳体,32-激光器,33-分光棱镜,34-第一反射镜套筒,35-第二反射镜套筒,36-第一反射镜,37-第二反射镜,38-反射镜,39-反射镜座,4-CCD摄像机,5-受检物,6-计算机,7-螺钉,a-透光孔。
具体实施方式
实施例:如图1所示,本实施例所出示的这种一维面内位移相移电子散斑干涉仪,包括一水平布置的光学平台1,该光学平台1的台面上布置有测试架2、激光发射装置3和CCD摄像机4。其中,测试架2用于固定受检物5(如图5),且测试架2上设置有用于向所述受检物施加荷载的加载装置,CCD摄像机4与计算机6电连接。
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