[实用新型]差分电容式传感器检测电路有效

专利信息
申请号: 201320654645.8 申请日: 2013-10-23
公开(公告)号: CN203519728U 公开(公告)日: 2014-04-02
发明(设计)人: 黄友华 申请(专利权)人: 成都市宏山科技有限公司
主分类号: G01R27/26 分类号: G01R27/26
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 610000 四川省*** 国省代码: 四川;51
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摘要:
搜索关键词: 电容 传感器 检测 电路
【说明书】:

技术领域

实用新型涉及集成电路,更具体的说是涉及一种差分电容式传感器检测电路。

背景技术

差分电容式传感器检测电路有多种电路方式来实现。由于差分电容式传感器所产生的信号极其微弱,一般都在PF量级,其电容变化量一般在10-15-10-18F,要检测如此微小的电容变化量,对检测电路中各部分电路的选取尤为重要。目前采用如图2所示的电路原理来构建电路,其最小差分量级可达到10-16F。但是,其电路结构复杂,使得集成后电路板体积较大,对封装有一定的限制。

实用新型内容

本实用新型提供一种差分电容式传感器检测电,其精度高,电路结构简单,便于封装。

为解决上述的技术问题,本实用新型采用以下技术方案:

差分电容式传感器检测电路,它包括场效应管MOS1、场效应管MOS2、场效应管MOS3、场效应管MOS4、时钟控制电路、电阻R1、电阻R2、电容C1、电容C2、放大器和D/A转换器,所述的场效应管MOS2和场效应管MOS4的栅极均连接在时钟控制电路上,所述的场效应管MOS2的漏极和场效应管MOS4的漏极分别与场效应管MOS1的源极和场效应管MOS3的源极相连;所述的场效应管MOS1的漏极和场效应管MOS3的漏极均连接在电源上;所述的电容C1的一端接地,另一端同时连接在场效应管MOS2的源极和放大器的一个输入端上;所述的电容C2的一端接地,另一端同时连接在场效应管MOS4的源极和放大器的另一个输入端上;所述的电阻R1并联在电容C1上,所述的电阻R2和电容C2并联;所述的放大器的输出端和D/A转换器的输入端相连。

更进一步的技术方案是:

所述的场效应管MOS1、场效应管MOS2、场效应管MOS3和场效应管MOS4均为P型场效应管。

所述的电阻R1的阻值与电阻R2的阻值相等。

与现有技术相比,本实用新型的有益效果是:

本实用新型采用场效应管作为支路通断的开关,利用时钟控制线路对场效应管的通断做控制,通过测量两个电容的变化量来检测计算加速度,其精度高,且电路结构简单,可有效的减少电路板的封装体积。

附图说明

下面结合附图和具体实施方式对本实用新型作进一步详细说明。

图1为本实用新型的电路图。

图2为现有差分电容式传感器检测电路的原理框图。

具体实施方式

下面结合附图对本实用新型作进一步的说明。本实用新型的实施方式包括但不限于下列实施例。

[实施例]

如图1所示的差分电容式传感器检测电路,它包括场效应管MOS1、场效应管MOS2、场效应管MOS3、场效应管MOS4、时钟控制电路、电阻R1、电阻R2、电容C1、电容C2、放大器和D/A转换器,所述的场效应管MOS2和场效应管MOS4的栅极均连接在时钟控制电路上,所述的场效应管MOS2的漏极和场效应管MOS4的漏极分别与场效应管MOS1的源极和场效应管MOS3的源极相连;所述的场效应管MOS1的漏极和场效应管MOS3的漏极均连接在电源上;所述的电容C1的一端接地,另一端同时连接在场效应管MOS2的源极和放大器的一个输入端上;所述的电容C2的一端接地,另一端同时连接在场效应管MOS4的源极和放大器的另一个输入端上;所述的电阻R1并联在电容C1上,所述的电阻R2和电容C2并联;所述的放大器的输出端和D/A转换器的输入端相连。

所述的场效应管MOS1、场效应管MOS2、场效应管MOS3和场效应管MOS4均为P型场效应管。

所述的电阻R1的阻值与电阻R2的阻值相等。

在本实用新型中,场效应管MOS1和场效应管MOS3栅极为偏置电压,可由外部产生。由时钟控制电路来控制场效应管MOS2和场效应管MOS4的交替开关,实现对两个电容的交错充放电采用。对电容进行时间相同的充电,电容大小与充电后的电压高低相关,放大器检测两个电容的电压差值,放大后进行数模转换输出数字信号,便于后续设备计算加速度。电阻R1、电阻R2分别为电容C1、电容C2所处支路提供通路。

采用该电路,其包含4个场效应管、两个电容、两个电阻、放大器、时钟控制电路和DA转换器,其电路结构简单,集成后电路板的体积小于采用图2所示电路原理集成的电路板的体积。

采用本实用新型,其精度高,由测量可得:其最小差分量级可达到10-17F。

如上所述即为本实用新型的实施例。本实用新型不局限于上述实施方式,任何人应该得知在本实用新型的启示下做出的结构变化,凡是与本实用新型具有相同或相近的技术方案,均落入本实用新型的保护范围之内。

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