[实用新型]紫外光和臭氧表面清洗与氧化改性真空设备

权利要求书

1.一种紫外光和臭氧表面清洗与氧化改性真空设备，其特征在于，包括真空腔室、紫外光源、水冷系统、样品架、真空系统和气压监控系统，其中： 

真空腔室主要由双层材料制作：内层为反射铝板，外层为不锈钢加强筋； 

紫灯光源包括紫外灯管和控制电源，紫外灯管安装于真空腔室内部的顶端，并与外部电源相连接； 

水冷系统设置在紫外灯管的上部，水冷系统用于防止紫外灯管以及腔室内的热量积聚引起温度不断升高； 

样品架位于紫外灯管正下方； 

真空系统连接所述真空腔室，真空系统用于快速、有效排空紫外光化学反应前后的气体； 

气压监控系统连接所述真空腔室，气压监控系统用于有效控制光化学反应过程中真空腔室腔内气体压强。 

2.根据权利要求1所述的紫外光和臭氧表面清洗与氧化改性真空设备，其特征在于，紫外灯管为主要发射184.9nm和253.7nm的紫外光的灯管。 

3.根据权利要求2所述的紫外光和臭氧表面清洗与氧化改性真空设备，其特征在于，紫外灯管通过铝制反射板固定于真空腔室内部顶端。 

4.根据权利要求2所述的紫外光和臭氧表面清洗与氧化改性真空设备，其特征在于，紫外灯管的功率为250W，紫外灯管直径为18mm，形状为hairpin结构，弯曲成200mm*200mm辐射面积。 

5.根据权利要求1或2所述的紫外光和臭氧表面清洗与氧化改性真空设备，其特征在于，样品架包括高度在一定范围内连续可调的高度调节机构，以有效控制光化学反应的强度。 

6.根据权利要求5所述的紫外光和臭氧表面清洗与氧化改性真空设备，其特征在于，样品架主要由反射铝材料制作，能够在60mm范围内升降，距紫外灯管下端面最近距离为10mm。 

7.根据权利要求1所述的紫外光和臭氧表面清洗与氧化改性真空设备，其特征在于，真空系统包括连接真空腔室的机械泵和真空计，真空系统提供低真空度以有效避免紫外灯管内外压力过大而引起的爆裂。 

8.根据权利要求1所述的紫外光和臭氧表面清洗与氧化改性真空设备，其特征在于，气压监控系统包括进气口、出气口、气体流量计和气压计，其中，气体流量计设置于进气口和真空腔室之间，以有效调节腔室内气体的压强，气压计设置于真空腔室的顶端，真空腔室通过出气口排放气体进行有效泄压。 

9.根据权利要求1所述的紫外光和臭氧表面清洗与氧化改性真空设备，其特征在于，还包括设置于真空腔室上的若干预留口。