[实用新型]一种铜线式电容触控屏

说明书

技术领域

本实用新型涉及电容触控屏，具体涉及一种铜线式电容触控屏。 

背景技术

触控屏是用于手机、电子书、数码相机等电子产品上的复合触摸屏，其中电容式触控屏是触控屏中最常用的一种。 

电容式触控屏是利用人体的电流感应进行工作。电容式触控屏通常是一块四层复合玻璃屏，当用户的手指触摸在电容式触控屏上时，由于人体电场，用户和电容式触控屏表面形成以一个耦合电容（对于高频电流来说，电容可以视为导体），于是手指从电容式触控屏表面的触控点吸走一个很小的电流，这个电流分从电容式触控屏的四角上的电极中流出。流经这四个电极的电流与手指到四角的距离成正比，控制器通过对这四个电流比例的精确计算，得出触摸点的位置。 

现有的电容式触控屏如图1所示，通常包括以下主要组成元件：显示图像的显示屏10，设置于所述显示屏上，在玻璃基材上镀上了铟锡金属氧化物ITO（Indium Tin Oxides）图案的纳米铟锡金属氧化物ITO传感器11，对ITO传感器11起保护作用的盖板（Cover Lens）12，用于粘合ITO传感器11与盖板（Cover Lens）12的光学双面胶13，以及与所述ITO传感器11相连的柔性电路板14。 

现有的电容式触控屏的传感器是在某种基材（玻璃或树脂）上镀上纳米铟锡氧化物ITO（Indium Tin Oxides），通过蚀刻（或黄光工艺）将所需要的ITO图案制出来，接着印制出银浆导线，作为连接ITO图案和相应触控屏上元器件 IC的相应通道，这样传统的ITO感应器需要多道工艺制作，使得生产效率低，成本也比较高。 

专利号为200810218271的中国专利公开了“电容式触控屏及其制造方法”的发明专利，其电容触控屏制造方法的步骤包括准备基板，在基板的加工侧面上溅镀铟锡金属氧化物ITO层，并按照预设图案通过施胶、显影、曝光、刻蚀和剥胶的工序进行加工；其发明存在不足是： 

1、以铟锡金属氧化物ITO为基材，而因铟锡金属氧化物中铟资源稀缺，使得电容触控屏加工制作成本过高； 

2、制作工艺流程复杂，使得生产效率降低，从而导致成本较高。 

专利号为US2010139955A1的专利公开了“图案化衬底、具有其的触摸屏传感器组件及其制造方法”的发明专利，其发明中包括多个电极的触摸屏传感器组件的图案化衬底，同时包括3层金属导电层，所述3层金属导电层中至少一个包括氧化铟锡，生产成本过高；同时触摸屏传感器组件制造方法包括多层电极图案的形成，其工艺流程过于复杂，使得生产效率降低，导致成本增高。 

实用新型内容

本实用新型实施例所要解决的问题是，提供一种铜线式电容触控屏，可降低原材料成本，简化工艺流程、减少设备投入，提高产品性能。 

为了解决以上问题，本实用新型实施例提供一种铜线式电容触控屏，包括： 

用于显示图像的显示屏，作为本实用新型的改进之处，所述铜线式电容触控屏还包括：设置于所述显示屏上，用于感测触控点的铜线式传感器，所述铜线式传感器是将所需图案及导线通过加工工艺一同制作在透明基材上的镀铜式传感器； 

所述铜线式传感器上设有用于保护所述铜线式传感器的盖板（Cover Lens），所述盖板（Cover Lens）与所述铜线式传感器通过光学双面胶粘合在一起。 

进一步的，所述透明基材为透明玻璃或透明PET薄膜。 

进一步的，所述铜线式电容屏还包括： 

与所述铜线式传感器相连，用于计算触控点并回报给处理器的柔性电路板。 

进一步的，所述盖板（Cover Lens）由钢化玻璃制成。 

本实用新型所提供的铜线式电容触控屏，其利用铜作为导电体，打破了传统的以纳米铟锡金属氧化物ITO为导电体，制程工艺复杂、加工成本高的难点，大大降低了生产制造成本。 

进一步的，本实用新型提供的铜线式电容触控屏，其铜线图形可通过蚀刻或黄光工艺，将所需图案及引线在同一道工序中制成，减少了工艺流程及设备的投入，节约了生产成本。 

进一步的，本实用新型提供的铜线式电容触控屏，结构简单，在厚度及重量上提升了优势。 

进一步的，本实用新型提供的铜线式电容触控屏的传感器引线较传统传感器线宽线距可做到更窄，因此在整机外形不变的情况下，显示区域可做到更大尺寸。 

附图说明