[实用新型]一种烧烤架有效
申请号: | 201320311456.0 | 申请日: | 2013-05-30 |
公开(公告)号: | CN203407930U | 公开(公告)日: | 2014-01-29 |
发明(设计)人: | T·J·M·范埃肯;M·Z·范拉尔特 | 申请(专利权)人: | 皇家飞利浦电子股份有限公司 |
主分类号: | A47J37/06 | 分类号: | A47J37/06 |
代理公司: | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人: | 王茂华;黄海鸣 |
地址: | 荷兰艾恩*** | 国省代码: | 荷兰;NL |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 烧烤 | ||
1.一种烧烤架,其特征在于包括具有第一受热面(5)的第一受热元件(3),具有第二受热面(27)的第二受热元件(22),和配置为加热第一受热元件和第二受热元件的加热器(4),其中所述第一受热元件(3)与所述加热器(4)之间的距离大于所述第二受热元件(22)与所述加热器(4)之间的距离,从而使得对所述第二受热元件每单位面积第二受热面(27)上的施加功率大于对所述第一受热元件每单位面积第一受热面(5)上的施加功率。
2.根据权利要求1所述的烧烤架,其特征在于对所述第二受热元件(22)每单位面积第二受热面(27)上的施加功率与对所述第一受热元件(3)每单位面积第一受热面(5)上的施加功率之比至少为1.4∶1。
3.根据权利要求1所述的烧烤架,其特征在于对所述第二受热元件(22)每单位面积第二受热面(27)上的施加功率与对所述第一受热元件(3)每单位面积第一受热面(5)上的施加功率之比小于3∶1。
4.根据权利要求1所述的烧烤架,其特征在于腔室(24)形成在所述第二受热元件(22)内并且所述第二受热元件的所述第二受热面(27)限定在所述腔室内。
5.根据权利要求4所述的烧烤架,其特征在于所述第二受热元件(22)包括底部(25)和从所述底部直立并围绕所述底部延伸以形成所述腔室(24)的侧壁(26),所述第二受热面(27)由所述底部形成。
6.根据权利要求5所述的烧烤架,其特征在于所述侧壁的厚度小于或等于3mm。
7.根据权利要求1所述的烧烤架,其特征在于在所述第一受热元件(3)中形成孔(8)并且所述第二受热元件(22)容纳在所述孔中。
8.根据权利要求1所述的烧烤架,其特征在于所述第二受热元件(22)与所述第一受热元件(3)间隔开。
9.根据权利要求1所述的烧烤架,其特征在于所述第一受热元件(3)与所述加热器(4)间隔开。
10.根据权利要求1所述的烧烤架,其特征在于配置为将热从所述加热器(4)通过传导传递到所述第二受热元件(22)。
11.根据权利要求1所述的烧烤架,其特征在于在所述第二受热元件(22)中形成通道(32),所述通道配置为容纳所述加热器(4)的一段。
12.根据权利要求1所述的烧烤架,其特征在于进一步包括配置为控制所述加热器(4)的工作的控制器。
13.根据权利要求12所述的烧烤架,其特征在于进一步包括传感器,其中所述控制器配置为响应于由所述传感器确定的温度来操作所述加热器(4)以控制所述第一受热面(5)的温度。
14.根据权利要求1所述的烧烤架,其特征在于所述第一受热元件(3)和所述第二受热元件(22)配置为使得当所述第一受热面(5)工作在温度范围200℃至270℃之间时,所述第二受热面(27)工作在温度范围270℃至400℃之间。
15.根据权利要求1所述的烧烤架,其特征在于进一步包括在所述第一受热面中的凹陷和在所述凹陷内限定的第三受热面。
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