[实用新型]电子枪坩埚的水冷装置

说明书

技术领域

本实用新型涉及电子枪坩埚的冷却装置，特别是涉及一种单坩埚电子枪坩埚的水冷装置。

背景技术

目前，真空镀膜机已广泛应用，电子枪坩埚是真空镀膜机中加热源部件电子枪的容器，在真空镀膜机工作过程中，处在真空（空气极其稀薄）中的电子枪产生高能电子会使坩埚内温度升至700～3600℃，如此高的温度会使坩埚熔化而被破坏，为了避免这类情况发生，有效地冷却坩埚是关键。

如图1、2所示现有技术采用的上喷水浸式水冷结构，整个坩埚1设置在坩埚托2上，坩埚1与坩埚托2之间形成水道，出水口3设置在坩埚托2的中间部位，进水孔4围绕在出水口3外在坩埚托2的中间部位，冷却水由坩埚1底部的坩埚托2的进水孔4向上喷出，在坩埚托2上缘旋转一周，坩埚1浸没在水中，从出水口3流出。而在实际使用中，冷却水由于重力的作用并不能充满图1示出的坩埚中水道的顶端空间（即图1中标6的“”标记所处的空间），造成坩埚上方冷却水不够，使水冷效果较差，达不到设计初衷。此外，在实际使用中发现，在一定小空间内，并不能产生设计理想的喷水效果。当坩埚水冷结构中冷却水不满，冷却能力也会大幅下降，坩埚极易被打漏，酿成事故。

实用新型内容

本实用新型要解决的技术问题是提供一种电子枪坩埚的水冷装置，能解决单坩埚电子枪坩埚外壁水冷不充分，易损坏酿成事故的问题。

解决上述技术问题的技术方案如下：

本实用新型提供一种电子枪坩埚的水冷装置，包括：

坩埚、坩埚托、出水口和进水孔；其中，

所述坩埚设置在坩埚托上，坩埚与坩埚托之间设成环形水道，所述环形水道沿所述坩埚外壁内设置；

所述出水口设置在所述坩埚托的中间部位，与所述环形水道的出水口连通；

所述进水孔设置在所述坩埚托的边缘处，与所述环形水道连通。

本实用新型的有益效果为：通过将环形水道沿坩埚外壁内设置，并使进水孔设置在所述坩埚托的边缘处，使得进水孔远离出水口，从而实现冷却水沿坩埚外壁循环，避免坩埚外壁水冷不充分，易损坏酿成事故的问题。

附图说明

为了更清楚地说明本实用新型实施例的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例，对于本领域的普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他附图。

图1为现有技术的电子枪坩埚的水冷装置示意图；

图2为现有技术的电子枪坩埚的水冷装置俯视图；

图3为本实用新型实施例提供的电子枪坩埚的水冷装置示意图；

图4为本实用新型实施例提供的电子枪坩埚的水冷装置俯视图。

具体实施方式

下面对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型的保护范围。

本实用新型实施例提供一种电子枪坩埚的水冷装置，如图3、4所示，该装置包括：坩埚21、坩埚托22、出水口25和进水孔24；

其中，坩埚21设置在坩埚托22上，坩埚21与坩埚托22之间设成环形水道23，所述环形水道23沿所述坩埚21外壁内设置；

出水口25设置在所述坩埚托22的中间部位，与所述环形水道25的出水口连通；

进水孔24设置在所述坩埚托22的边缘处，与所述环形水道23连通。

上述水冷装置中，进水孔为多个，沿所述环形水道均匀分布，各进水孔均与所述环形水道连通。实际中，进水孔24为三个，沿坩埚托22的边缘处均匀分布（见图3、4），这样进水孔24环绕在出水口25外，且远离出水口25；

进一步的，上述水冷装置还包括：隔水板26，设置在与所述出水口25连接的所述环形水道内，使连接所述出水口的一段环形水道的出水处27与所述坩埚21的顶壁相接触。

本实施例的水冷装置，可使冷却水更好的流经坩埚外壁，带走更多热量，通过将进水孔位置设在坩埚托边缘处，调整连接出水口的一段环形水道的出水处与坩埚顶壁相接触（即提高出水处的高度）。该水冷装置通过改变坩埚托的结构，使坩埚与冷却水接触面积加大，水流加快，热交换更加充分。与改进前相比，同一时间坩埚内冷却水水量增加，水流流速加快，单位时间冷却效率提升。

以上所述，仅为本实用新型较佳的具体实施方式，但本实用新型的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本实用新型披露的技术范围内，可轻易想到的变化或替换，都应涵盖在本实用新型的保护范围之内。因此，本实用新型的保护范围应该以权利要求书的保护范围为准。