[实用新型]液晶像素电极结构、阵列基板及显示装置有效

专利信息
申请号: 201320168342.5 申请日: 2013-04-07
公开(公告)号: CN203149252U 公开(公告)日: 2013-08-21
发明(设计)人: 文锺源;黄强;朴台圭 申请(专利权)人: 合肥京东方光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司
主分类号: G02F1/1343 分类号: G02F1/1343
代理公司: 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 代理人: 王莹
地址: 230011 安*** 国省代码: 安徽;34
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 液晶 像素 电极 结构 阵列 显示装置
【说明书】:

技术领域

实用新型涉及显示技术领域,具体涉及一种液晶像素电极结构、阵列基板及显示装置。

背景技术

在液晶显示技术中,AD-SDS(ADvanced Super Dimension Switch,高级超维场转换技术,简称ADS)模式以透过率高、宽视角、响应速度快和功耗低的优点逐渐取代TN(Twisted Nematic)液晶模式,成为液晶显示领域的重要技术之一。

基于ADS模式的显示器通过同一平面内狭缝电极边缘所产生的电场以及狭缝电极层与板状电极层间产生的电场形成多维电场,使液晶盒内狭缝电极间、电极正上方所有取向液晶分子都能够产生旋转,从而提高了液晶工作效率并增大了透光效率。高级超维场转换技术可以提高TFT-LCD产品的画面品质,具有高分辨率、高透过率、低功耗、宽视角、高开口率、低色差、无挤压水波纹(push Mura)等优点。

现有ADS模式显示面板的结构如图1所示,包括彩膜基板2、阵列基板3、以及两者对盒之后灌注的液晶1,其中阵列基板3还包括像素电极4(相当于狭缝电极)、公共电极5、以及钝化层6。图1中虚线左边表示未加电压状态,右边表示加电压状态。当加电压时,盒内电场线呈抛物线状,液晶分子在电场线作用下发生扭曲旋转,从而达到控制光线的目的。现有ADS模式电极结构的透过率特性如图2中曲线所示,光透过率在像素电极的边缘处最大,而在相邻像素电极之间和像素电极中间处,光透过率极小。

在现有的ADS模式中,采用单个像素电极完全覆盖公共电极的设计,电极通常是一层ITO薄膜,ITO透过率约为0.91,光线经过像素电极和公共电极两层ITO薄膜的透过率约为0.80,损耗接近0.20。此外,现有ADS模式中相邻像素电极之间和像素电极的中间位置电场较弱,需要较高的驱动电压以保证液晶驱动。

实用新型内容

本实用新型要解决的技术问题是:提供一种能够提高现有ADS模式透过率,并降低驱动电压,减少能耗的液晶像素电极结构、阵列基板及显示装置。

为解决上述问题,本实用新型提供一种液晶像素电极结构,其包括:第一像素电极和第二像素电极、以及公共电极,所述第一像素电极和第二像素电极依次间隔排布,且位于所述公共电极上方,所述第一像素电极和第二像素电极的驱动电压不同,且分别与所述公共电极之间形成相等的电压差绝对值。

优选地,所述公共电极为狭缝电极。

优选地,所述狭缝电极的开口位置对应于所述第一像素电极或者所述第二像素电极的位置。

优选地,所述开口的面积小于相应的所述第一像素电极或者所述第二像素电极的面积。

优选地,所述第一像素电极和第二像素电极由ITO材料制成。

优选地,所述公共电极由ITO材料制成。

优选地,所述电极结构还包括位于所述公共电极与所述第一像素电极及第二像素电极之间的钝化层。

本实用新型还提供一种阵列基板,包括上述的电极结构。

本实用新型还提供一种显示装置,包括上述的阵列基板。

本实用新型中两种像素电极相互可以产生电场,同时这两种电极也可以分别与公共电极产生电场,两种电场综合起来可降低驱动电压的需求,减少能耗。此外,本实用新型中公共电极采用狭缝电极,光透过率得到提升。

附图说明

图1是现有ADS模式显示面板的结构图;

图2是现有ADS模式电极结构的透过率特性曲线;

图3是本实用新型提供的一种ADS模式下的液晶像素电极结构图;

图4是本实用新型一种实施例中所需提供的驱动电压的示意图;

图5是本实用新型提供的一种ADS模式电极结构的透过率特性曲线。

具体实施方式

下面结合附图和实施例,对本实用新型的具体实施方式作进一步详细描述。以下实施例用于说明本实用新型,但不用来限制本实用新型的范围。

图3是本实用新型提供的一种ADS模式下的液晶像素电极结构图,包括:第一像素电极7和第二像素电极8、以及公共电极9,所述第一像素电极7和第二像素电极8依次间隔排布,且位于所述公共电极9上方。

所述第一像素电极7和第二像素电极8的驱动电压不同,它们之间会产生电场,其电场线标记为10。同时,第一像素电极7和第二像素电极8又分别与公共电极9之间产生电场,其电场线标记为11。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于合肥京东方光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司,未经合肥京东方光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201320168342.5/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top