[发明专利]太阳能电池的背面接触设计及其制造方法有效

专利信息
申请号: 201310756346.X 申请日: 2013-12-30
公开(公告)号: CN104576821A 公开(公告)日: 2015-04-29
发明(设计)人: 程子桓;蔡家弘 申请(专利权)人: 台积太阳能股份有限公司
主分类号: H01L31/18 分类号: H01L31/18;H01L31/20;H01L31/0352;H01L31/02;H01L31/06
代理公司: 北京德恒律治知识产权代理有限公司 11409 代理人: 章社杲;孙征
地址: 中国台*** 国省代码: 中国台湾;71
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 太阳能电池 背面 接触 设计 及其 制造 方法
【权利要求书】:

1.一种方法,包括:

在直接位于太阳能电池衬底上方的背面接触层上的多个位置处沉积间隔件;

在所述背面接触层和所述间隔件的上方形成吸收层,所述吸收层部分地与所述间隔件接触且部分地与所述背面接触层直接接触;以及

加热所述太阳能电池衬底,以在所述吸收层和所述背面接触层之间的所述间隔件的位置处形成空隙。

2.根据权利要求1所述的方法,其中,沉积所述间隔件的步骤包括在所述背面接触层上喷射间隔件材料粒子。

3.根据权利要求2所述的方法,其中,所述间隔件材料包括金属氧化物。

4.根据权利要求2所述的方法,其中,所述间隔件材料包括二氧化硅或高电阻化合物半导体。

5.根据权利要求2所述的方法,其中,所述间隔件材料粒子的尺寸介于约100nm至约500nm之间。

6.根据权利要求1所述的方法,其中,沉积所述间隔件的步骤包括:在所述背面接触层上喷射纳米粒子。

7.根据权利要求1所述的方法,其中,沉积所述间隔件的步骤包括:

在所述背面接触层上沉积二氧化硅膜或绝缘膜;以及

使用光刻工艺去除所述二氧化硅膜或绝缘膜的位于所述间隔件的位置外侧的部分。

8.根据权利要求1所述的方法,其中,沉积所述间隔件的步骤包括:用间隔件材料覆盖所述背面接触层的约70%至约80%。

9.一种方法,包括:

在直接位于太阳能电池衬底上方的背面接触层上的多个位置处喷射间隔件材料;以及

在所述背面接触层和所述间隔件材料的上方形成吸收层,使得约10%至约80%的所述吸收层与所述间隔件材料直接接触,以及约90%至约20%的所述吸收层与所述背面接触层直接接触。

10.一种太阳能电池,包括:

太阳能电池衬底;

背面接触层,位于所述太阳能电池衬底的上方;

吸收层,包括吸收层材料且位于所述背面接触层上方,所述吸收层材料部分地与所述背面接触层直接接触,所述吸收层材料其中具有多个空隙,所述空隙直接位于所述背面接触层上;

缓冲层,位于所述吸收层的上方;以及

正面接触层,位于所述缓冲层的上方。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于台积太阳能股份有限公司,未经台积太阳能股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201310756346.X/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top