[发明专利]一种防指纹薄膜的制备方法及防指纹薄膜

说明书

本发明提供了一种防指纹薄膜及其制备方法，采用直流磁控溅射在基材表面形成一层防指纹薄膜；所述直流磁控溅射采用的靶材为导电性靶材；所述导电性靶材中含有聚四氟乙烯，还含有金属和/或半导体，其中所述金属选自Mg、Al、Cu、Ti中的至少一种，所述半导体选自GaAs、GaN、氧化铟锡、氧化锌铝中的至少一种。本发明提供的防指纹薄膜的制备方法，采用直流磁控溅射的方法在基材表面一次成型制备一层兼具有高透光率、高硬度和耐摩擦性良好的防指纹薄膜工艺简单。

技术领域

本发明属于薄膜材料制备领域，尤其涉及一种防指纹薄膜的制备方法及由该制备方法制备得到的防指纹薄膜。

背景技术

触摸屏作为一种最新的输入技术，是目前最简单、方便、自然的一种人机交互方式。它赋予了多媒体以崭新的面貌，是极富吸引力的全新多媒体交互设备。随着电子工业的发展，触摸屏的应用越来越广泛，从最初的小屏幕手机、MP3，到现在大尺寸屏幕的电脑、ATM、医疗、工业控制设备及显示器和电视机。特别是近两年， iPhone手机和ipad电脑的推出带动了触摸屏技术的发展，这一技术也正逐渐应用到其他的便携电子产品上。触摸屏在带来方便、舒适和快捷的同时，因使用过程中手指经常触碰屏幕表面留下指纹印和油污，不易清洗，时间一长就会影响屏幕的正常使用。

手机及其它触摸屏产品在阳光下使用过程中，看不清屏幕，导致阅读、编辑短信困难，严重的会无法拨打号码，目前通常采用提高屏幕亮度的方法来改善，但该方法效果不大，且会大大降低电池使用时间，对日常手机使用造成严重困扰。因此寻求一种制备阳光下清晰、同时兼具防指纹效果的薄膜的方法已成为当务之急。目前防指纹薄膜的制备主要采用真空蒸发镀膜和射频磁控溅射镀膜两种，其中真空蒸发镀膜的附着力较差且大尺寸薄膜的均匀性差，因此对于大尺寸薄膜一般采用射频磁控溅射，但射频电源会对人体产生辐射危害，屏蔽困难，生产成本很高同时溅射效率较低也是业界周知的。

发明内容

本发明解决了现有技术中存在的防指纹薄膜存在的附着力差、无法制得均匀性好的大尺寸薄膜且生产成本高的技术问题，提供了一种防指纹薄膜的制备方法以及由该制备方法制备得到的防指纹薄膜。

具体地，本发明的技术方案为：

一种防指纹薄膜的制备方法，采用直流磁控溅射在基材表面形成一层防指纹薄膜；所述直流磁控溅射采用的靶材为导电性靶材；所述导电性靶材中含有聚四氟乙烯，还含有金属和/或半导体，其中所述金属选自Mg、Al、Cu、Ti中的至少一种，所述半导体选自GaAs、GaN、氧化铟锡、氧化锌铝中的至少一种。

一种防指纹薄膜，所述防指纹薄膜由本发明提供的制备方法制备得到。

本发明提供的防指纹薄膜的制备方法，采用直流磁控溅射的方法在基材表面一次成型制备一层兼具有高透光率、高硬度和耐摩擦性良好的防手印薄膜（即本发明提供的防指纹薄膜），工艺简单。

具体实施方式

本发明提供了一种防指纹薄膜的制备方法，采用直流磁控溅射在基材表面形成一层防指纹薄膜；所述直流磁控溅射采用的靶材为导电性靶材；所述导电性靶材中含有聚四氟乙烯，还含有金属和/或半导体，其中所述金属选自Mg、Al、Cu、Ti中的至少一种，所述半导体选自GaAs、GaN、氧化铟锡、氧化锌铝中的至少一种。

发明人发现，目前溅射法制备防指纹薄膜的靶材基本为不导电的聚四氟乙烯靶材，其只能采用射频电源进行溅射，采用直流溅射会出现靶中毒，无法溅射成膜。因此，本发明提供的防指纹薄膜的制备方法中，先对常规的聚四氟乙烯靶材进行改性，具体通过在聚四氟乙烯中掺杂金属和/或半导体，使得到导电性靶材，然后再采用直流磁控溅射的方法在基材表面一次成型制备一层兼具有高透光率、高硬度和耐摩擦性良好的防手印薄膜（即本发明提供的防指纹薄膜），工艺简单。

另外，采用本发明提供的直流磁控溅射法沉积所述防指纹膜，替代了对人体有辐射危害的射频溅射工艺，还大大提高了生产效率。