[发明专利]铜锌锡硒薄膜太阳电池的制备方法在审
申请号: | 201310714983.0 | 申请日: | 2013-12-16 |
公开(公告)号: | CN104716229A | 公开(公告)日: | 2015-06-17 |
发明(设计)人: | 杨亦桐;王胜利;李微;杨立;赵彦民;乔在祥 | 申请(专利权)人: | 中国电子科技集团公司第十八研究所 |
主分类号: | H01L31/18 | 分类号: | H01L31/18 |
代理公司: | 天津市鼎和专利商标代理有限公司 12101 | 代理人: | 李凤 |
地址: | 300384 天津*** | 国省代码: | 天津;12 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 铜锌锡硒 薄膜 太阳电池 制备 方法 | ||
1.铜锌锡硒薄膜太阳电池的制备方法,其特征在于:包括以下步骤:
步骤1.将衬底上带有Mo背电极的一面向下置入蒸发腔室中可旋转的样品架内,衬底的上方置衬底加热器;作为蒸发源的Cu、Zn、Sn、Se均匀分布在蒸发腔室内衬底的Mo背电极下方周边,每一蒸发源上面置有一蒸发源挡板;
步骤2.用真空泵将蒸发腔室内抽真空至10-4Pa,将衬底加热至380℃,将各蒸发源中Cu加热至1100℃~1200℃、Zn加热至280℃~380℃、Sn加热至1000℃~1100℃、Se加热至200℃~250℃,旋转样品架,打开Zn、Sn、Se上面的蒸发源挡板,在衬底的Mo背电极上共蒸发Zn、Sn、Se,蒸发时间为10min,Mo背电极上沉积一层预置层薄膜;
步骤3.当衬底继续加热至500℃时,关闭Zn、Sn上面的蒸发源挡板,打开Cu上面的蒸发源挡板,共蒸发Cu、Se,蒸发时间为23min,步骤2中的预置层薄膜变为富Cu吸收层薄膜;
步骤4.关闭Cu上面的蒸发源挡板,停止Cu蒸发源加热,打开Zn、Sn的蒸发源挡板,共蒸发Zn、Sn、Se,蒸发时间为12min,步骤3中的富Cu吸收层薄膜变为贫Cu吸收层薄膜;
步骤5.关闭Zn蒸发源挡板,停止Zn蒸发源加热,衬底在Sn、Se气氛下以20-30℃/min的速率降温,直至衬底温度低于450℃后关闭Sn的蒸发源挡板,停止Sn蒸发源加热;衬底继续降温至低于350℃后关闭Se的蒸发源挡板,停止Se蒸发源加热,停止衬底旋转,待衬底冷却至室温后取出,Mo背电极上的贫Cu吸收层薄膜形成铜锌锡硒薄膜吸收层;
步骤6.在铜锌锡硒薄膜吸收层上面依次制作CdS缓冲层、本征i-ZnO层、透明导电薄膜窗口层和金属栅电极。
2.根据权利要求1所述的铜锌锡硒薄膜太阳电池的制备方法,其特征在于:所述衬底为钠钙玻璃、钛箔或不锈钢箔;所述Mo背电极厚度为1μm。
3.根据权利要求1所述的铜锌锡硒薄膜太阳电池的制备方法,其特征在于:所述衬底加热器由盘绕在不锈钢托盘上的电炉丝构成。
4.根据权利要求1所述的铜锌锡硒薄膜太阳电池的制备方法,其特征在于:所述每一个蒸发源内部均置有用于监测蒸发温度的热偶。
5.根据权利要求1所述的铜锌锡硒薄膜太阳电池的制备方法,其特征在于:所述铜锌锡硒薄膜吸收层为1.5μm厚的p型铜锌锡硒吸收层;所述CdS缓冲层为50nm厚的n型CdS缓冲层;所述本征i-ZnO层的厚度为50nm;所述透明导电薄膜窗口层的厚度为300~500nm;所述金属栅电极为Ni/Al金属栅电极。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的