[发明专利]一种钙磷陶瓷活化表面及制备方法

权利要求书

1.一种钙磷陶瓷活化表面的制备方法，其特征在于，包含以下工艺步骤：

（1）钙磷陶瓷的制备：将磷酸钙陶瓷粉末，装入模具中，在油介质中采用冷等静压压制成型，压强为150-200MPa，保持荷载6-10h后取出陶瓷坯体，然后对初坯体进行高温烧结，以石墨作为辅助材料进行填埋烧结，烧结温度为1150-1200℃，升温速率为8-10℃/min，保温5-10h，样品随炉冷却；将得到的陶瓷切割成2～3mm的薄片，并将薄片两面打磨光滑；再用去离子水超声清洗，最后烘干；

（2）等离子喷涂：将步骤（1）所得的陶瓷片固定在等离子喷涂的样品夹上，首先对样品进行预热，然后采用等离子喷涂设备在陶瓷表面制备双相磷酸钙生物活性涂层，且喷涂过程控制参数如下：主气Ar：40～50L/min；辅气He:10～20L/min；喷涂功率：20～30kw；喷枪移动速率300～500mm/s；喷枪距离：100～150mm；送粉率：5～12g/min；喷枪扫描次数为：5～20次；喷涂粉为羟基磷灰石/磷酸三钙双相生物陶瓷粉末，粒径为：5～50mm；

（3）水热后处理：喷涂后的试样用浸润过去离子水的纱布包裹，经高温高压水蒸气处理，冷却至室温取出，烘干即可。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述喷涂粉中羟基磷灰石的体积百分比为40%～70%，其余为磷酸三钙。

3.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述涂层厚度为0.05～0.2mm。

4.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，步骤（2）所述预热处理的温度为：150～250℃。

5.根据权利要求1或2或3或4所述的方法，其特征在于，步骤（3）所述高温高压水蒸气处理的温度为120～150℃，压强为0.25-0.5MPa，处理时间为30min～120min。

6.根据权利要求1～5任意一项方法制备的钙磷陶瓷活化表面。