[发明专利]用于基板的支撑装置及其运送基板的方法

说明书

技术领域

本发明涉及显示装置的制备技术领域，尤其是指一种用于基板的支撑装置及其运送基板的方法。

背景技术

在TFT－LCD（薄膜场效应晶体管液晶显示器）的阵列干法蚀刻制作工艺中，一般采用等离子对玻璃基板进行刻蚀，这个过程中如果不对玻璃基板进行位置固定，玻璃基板就会发生漂移，影响刻蚀效果和准确度。

现有技术为了固定玻璃基板，一般在干法蚀刻腔（dry etch chamber）中的下基台使用印花(Embossing)电极，上部等离子刻蚀时产生负电荷，印花电极产生正电荷，利用静电吸附作用对玻璃基板进行固定，防止其漂移；此外，利用电极平台上的撑脚（Pin）来支撑玻璃基板在电极平台上的升降，便于机械手取放玻璃基板。

如图1为现有技术采用机械手1将玻璃基板2取放于电极平台3上的结构示意图，通过机械手1将玻璃基板2放置于电极平台3上的撑脚4，之后机械手1抽出，使撑脚4下移，将玻璃基板2设置于印花电极5上。然而，由于玻璃基板2自身重力和机械手1承重范围局限性，在通过机械手1将玻璃基板2放置于撑脚4上的过程中，玻璃基板2的边缘相对于中间会有倾斜下垂，为了放置玻璃基板2时使玻璃基板2的边缘不与撑脚4碰撞，周边的撑脚4一般排布在距离电极平台3边缘一定距离的位置，这样当玻璃基板2置于撑脚4上时，周边无撑脚4支撑的玻璃基板2的边缘同样会倾斜下垂(如图1所示)。

再一方面，印花电极5由硬度高于玻璃的陶瓷包覆，且在长期静电作用及其他因素的影响下，会有沉淀物质生成，并牢牢地粘附在电极顶部，呈毛刺状，所以在干法蚀刻的前后，玻璃基板2降落于印花电极5和从印花电极5抬离的过程中，印花电极5会将玻璃基板2下表面划伤形成许多微小的裂痕(纹)，并且在后续工艺中，玻璃基板2环境的温度存在快速上升（达到300℃）及快速下降(室温)时，会导致玻璃基板2的裂痕扩大，且对玻璃基板2内部形成一定的破坏作用，即与印花电极5接触及周边位置的玻璃基板2均匀性降低，当光通过时，容易造成光的散射，形成印花斑点（Embossing Mura）。由于玻璃基板2边缘位置倾斜下垂，降落和升起过程中玻璃基板2的边缘首先接触印花电极5，接触时间更长，作用力更大，整个过程划伤更严重，所以位于玻璃基板2边缘的面板Embossing Mura发生率更高，mura现象更严重。

发明内容

根据以上，本发明技术方案的目的是提供一种用于基板的支撑装置及其运送基板的方法，用于解决现有技术基板固定于基台时产生边缘下垂及形成印花斑点的问题。

本发明提供一种用于基板的支撑装置，包括基台和撑脚结构，通过撑脚结构支撑基板从装载台位移动至固定台位，并通过撑脚结构将基板从固定台位移动至装载台位，其中所述撑脚结构包括：

多个第一撑脚，包括位于所述装载台位以第一高度竖直设置于基台上的状态，用于支撑基板的中部区域；

多个第二撑脚，在所述第一撑脚的外围分布设置，包括位于所述装载台位以第二高度竖直设置于基台上的状态，用于支撑基板的边缘区域，其中所述第二高度小于等于所述第一高度；

控制结构，用于分别控制所述第一撑脚和所述第二撑脚在所述装载台位与所述固定台位之间的移动，其中当所述第一撑脚和所述第二撑脚到达所述装载台位，基板放置于所述第一撑脚和所述第二撑脚上之后，使所述第一撑脚下移至所述第二高度，之后与所述第二撑脚同时移动，将基板设置于所述固定台位上。

优选地，上述所述的支撑装置，所述第二撑脚的顶端直径小于所述第一撑脚的顶端直径。

优选地，上述所述的支撑装置，所述第一撑脚和所述第二撑脚还分别包括位于基台内部的状态。

优选地，上述所述的支撑装置，所述控制结构包括：

第一控制结构，用于控制所述第一撑脚从基台内部升起至所述第一高度，到达所述装载台位，以及从所述装载台位下移至所述第二高度与所述第二撑脚同高，之后下移至所述固定台位，之后继续下移至位于基台内部；

第二控制结构，用于控制所述第二撑脚从基台内部升起至所述第二高度，到达所述装载台位，以及从所述装载台位下移至所述固定台位，之后继续下移至位于基台内部。

优选地，上述所述的支撑装置，所述支撑装置还包括：检测结构，用于当所述第一控制结构使所述第一撑脚升起至所述装载台位，所述基板放置于所述第一撑脚上，所述第二撑脚位于基台内部时，检测所述第二撑脚的顶端到所述基板的垂直距离，使所述第二控制结构根据所述垂直距离使所述第二撑脚升起，到达所述装载台位，所述第二高度与所述垂直距离对应。