[发明专利]微机电Z轴面外止挡件

权利要求书

1.一种微机电结构，其包括：

传感器基板；

检验质量块，其经由至少一个弹性元件在所述传感器基板上方悬置，所述检验质量块响应于所述结构的加速度而移位和倾斜；

帽基板，其与所述传感器基板联接，所述帽基板粘接至所述传感器基板以形成一封闭所述检验质量块的容腔，所述帽基板进一步包括多个冲撞止挡件，所述冲撞止挡件在所述检验质量块上方布置，以在冲撞载荷出现的情况下在特定的位置将所述检验质量块推回；以及

多个在所述检验质量块下方联接的平衡止挡件，所述多个平衡止挡件中的每个平衡止挡件根据所述多个冲撞止挡件中的一个冲撞止挡件的位置被布置并且通过平衡电压被电驱动，所述多个平衡止挡件中的每个平衡止挡件在所述检验质量块上产生第一静电力和力矩，以平衡由对应的冲撞止挡件产生的第二力和力矩。

2.根据权利要求1所述的微机电结构，其特征在于，还包括在所述传感器基板上布置的传感器电极，所述传感器电极与所述检验质量块上的电极相关联，以形成电容器，所述电容器的电容变化表示加速度的幅度。

3.根据权利要求2所述的微机电结构，其特征在于，所述传感器基板还集成有读取电路，所述读取电路联接成处理所述电容变化。

4.根据权利要求2所述的微机电结构，其特征在于，所述传感器电极和所述多个平衡止挡件由同一层导电膜制成。

5.根据权利要求2所述的微机电结构，其特征在于，所述多个平衡止挡件利用所述传感器基板实现。

6.根据权利要求1所述的微机电结构，其特征在于，所述结构应用成检测与所述检验质量块所在的平面垂直的面外加速度。

7.根据权利要求1所述的微机电结构，其特征在于，所述帽基板还包括边缘，所述帽基板和所述传感器基板在所述边缘处粘接。

8.根据权利要求7所述的微机电结构，其特征在于，所述边缘和所述多个冲撞止挡件具有不同的高度。

9.根据权利要求7所述的微机电结构，其特征在于，所述边缘和所述多个冲撞止挡件由选自将所述帽基板凹设以及将外来的边缘和冲撞止挡零件组装在所述帽基板上的一种方法来形成。

10.根据权利要求1所述的微机电结构，其特征在于，所述帽基板和所述传感器基板通过选自金属至金属粘合工艺以及硅至金属粘合工艺中的一种工艺被粘合。

11.一种保护微机电结构免受机械冲撞以及静电干扰影响的方法，包括以下步骤：

在帽基板上集成多个冲撞止挡件，所述帽基板粘接至传感器基板以形成一容腔，来封闭检验质量块，所述检验质量块经由至少一个弹性元件在所述传感器基板上方悬置，所述检验质量块响应于所述结构的加速度而移位和倾斜，所述多个冲撞止挡件在所述检验质量块上方布置，以在冲撞载荷出现的情况下在特定的位置将所述检验质量块推回；

在所述检验质量块下方布置多个平衡止挡件，每个平衡止挡件根据所述多个冲撞止挡件中的一个冲撞止挡件的位置被布置；以及

将所述多个平衡止挡件中的每个平衡止挡件电联接至平衡电压，所述多个平衡止挡件中的每个平衡止挡件在所述检验质量块上产生第一静电力和力矩，以平衡由对应的冲撞止挡件产生的第二力和力矩。

12.根据权利要求11所述的方法，其特征在于，传感器电极在所述传感器基板上布置，所述传感器电极与所述检验质量块上的电极相关联，以形成电容器，所述电容器的电容变化表示加速度的幅度。

13.根据权利要求12所述的方法，其特征在于，所述传感器基板还集成有读取电路，所述读取电路联接成处理所述电容变化。

14.根据权利要求12所述的方法，其特征在于，所述传感器电极和所述多个平衡止挡件由同一层导电膜制成。

15.根据权利要求11所述的方法，其特征在于，所述多个平衡止挡件在所述传感器基板上直接制成。

16.根据权利要求11所述的方法，其特征在于，所述结构应用成检测与所述检验质量块所在的平面垂直的面外加速度。

17.根据权利要求11所述的方法，其特征在于，所述帽基板还包括边缘，所述帽基板和所述传感器基板在所述边缘处粘接。