[发明专利]设有可提高对称性的导气装置的泵以及等离子处理装置

权利要求书

1.一种用于等离子处理装置的导气装置，等离子处理装置包含反应腔、设置于反应腔的底部的基座、设置于反应腔下方的泵，所述泵的进气口与反应腔气路连通；

其特征在于，所述导气装置气路连通于所述泵与反应腔之间，反应腔的电极区域通过该导气装置进行排气或抽真空工艺；

所述导气装置包含：

外壳（21），其设有上下连通的气道，该气道的上端气路连通反应腔，下端气路连通至泵；

中心管道（22），其设置于所述外壳（21）内的气道中，该中心管道（22）上端气路连通所述反应腔，下端封闭；该中心管道内形成中心气道（221），中心管道（22）与外壳（21）之间形成外层气道；

若干分隔结构（23），其由所述中心管道（22）侧壁连接至所述外壳（21）的内侧壁，将所述外层气道分隔成若干个相互连通的外层子气道（211），外层子气道气路连通泵。

2.如权利要求1所述的导气装置，其特征在于，所述的分隔结构（23）设置为中空或实心的。

3.如权利要求2所述的导气装置，其特征在于，所述的分隔结构（23）中设有辅助气道（231），该辅助气道（231）由所述中心管道（22）内部延伸至所述外壳（21）的外部，所述中心气道（221）通过辅助气道（231）与外界连通。

4.如权利要求3所述的导气装置，其特征在于，所述辅助气道（231）中设有气路开关。

5.如权利要求1至4中任意一项权利要求所述的导气装置，其特征在于，各个所述分隔结构（23）的轴向宽度不相等。

6.如权利要求5所述的导气装置，其特征在于，该导气装置中设有四个分隔结构（23），四个分隔结构（23）相互间的间隔距离相等；四个分隔结构（23）将所述外层气道分隔为四个外层子气道（211）。

7.如权利要求6所述的导气装置，其特征在于，四个所述分隔结构（23）两两相对设置，其中相对设置的一对所述分隔结构（23）的轴向宽度相等。

8.一种设有如权利要求1至7中任意一项权利要求所述导气装置的对称泵组件，其设置于反应腔的下方、位于静电卡盘与电极区域的下方、并与反应腔气路连通；

其特征在于，该对称泵组件包含：泵、气路连通在所述泵与反应腔之间的下游控制阀、气路连通在所述下游控制阀与反应腔之间的导气装置；

所述下游控制阀的顶部设有用于控制阀开闭的横梁；

所述导气装置包含有分隔结构（23），该分隔结构（23）正好遮盖在所述下游控制阀的横梁上方，从而该横梁不会穿过各个分隔结构（23）所分隔成的各个外层子气道（211），使各个外层子气道（211）从晶圆级来看是互相相同和对称的。

9.如权利要求8所述的对称泵组件，其特征在于，所述导气装置包含有四个分隔结构（23），四个分隔结构（23）两两相对设置，其中相对设置的分隔结构（23）为一组，两组分隔结构（23）的中轴线相互垂直；该两组分隔结构（23）中的一组与所述下游控制阀的横梁平行设置，且正好设置于该横梁的上方。

10.一种设有如权利要求8或9所述对称泵组件的等离子处理装置，该装置包含：反应腔、平行设置于反应腔顶部和底部的上电极和下电极，设置于反应腔内底部的静电卡盘；其特征在于，所述对称泵组件设置于所述等离子处理装置的反应腔的下方，并与所述反应腔气路连通，用于对反应腔进行抽真空与水、气排放。