[发明专利]大口径晶体微缺陷修复设备用多可调支撑隔振平台装置

说明书

技术领域

本发明涉及一种大口径晶体微缺陷修复设备用支撑隔振平台装置。

背景技术

当前，能源问题已经成为世界瞩目的焦点，世界各国均投入了大量的人力财力来进行新能源的开发与利用。由氘氚等轻核材料聚变产生的能源，具有既取之不尽而又清洁的特点，成为了未来最为理想的新能源。目前，美、中等大国正在研究利用高能激光惯性约束的方法来实现核聚变的和平利用，美国国家点火装置、中国神光装置等均已建设完成。大口径KDP晶体以其优良的光学性能，作为光学倍频以及光学开关晶体，在激光核聚变装置中起到了重要作用。然而，KDP晶体在超精密机械加工以及高能激光打靶过程中，其晶体表面容易产生裂纹、凹坑、烧蚀等尺度为几十微米到几百微米的微缺陷。这些初始产生的微缺陷使得KDP晶体的激光损伤阈值急剧下降，在后续的高能激光打靶中，微缺陷的尺寸会快速增长，并最终导致整块晶体的损坏。因此，及时对这些初始产生的微缺陷采取措施进行必要处理，来延缓其快速增长就非常必要。目前，采用微机械加工的方法对这些微缺陷进行修复是最有效的处理方式。基于微机械修复方法，它是采用高精度高转速的微小球刀对微缺陷进行修复，修复头架、微缺陷快速探测与修复质量监控等均需要稳定可靠的安装平台，平台的面形精度高低对微缺陷修复工艺质量有着非常重要影响，因此，亟待有一个与大口径晶体微缺陷修复设备配套使用，并能够满足微缺陷修复后的轮廓精度以及高修复表面质量的支撑隔振平台装置。

发明内容

本发明的目的是为了解决截至目前为止，现无与大口径晶体微缺陷修复设备配套使用，能够满足大口径晶体微缺陷修复后的轮廓精度以及高修复表面质量的支撑隔振平台装置的问题，进而提供一种大口径晶体微缺陷修复设备用多可调支撑隔振平台装置。

大口径KDP晶体表面微缺陷修复设备是一台高精度的大型设备。为了保证微缺陷修复后的外形以及修复表面质量，该设备对安装平台的平面度、平台的隔振性能要求很高；同时，KDP晶体的气浮部分在运动过程中对工作台表面的平面度和表面粗糙度也有很高的要求。为了使大口径KDP晶体表面微缺陷修复设备达到以上要求，本发明设计了一套多可调支撑隔振平台装置。该装置包含四个主支撑组件和五个可调辅助支撑组件，通过对辅助支撑的调节来减小花岗岩工作平台由于自重产生的变形，从而提高了工作台表面的平面度。另外，该装置还包含了四个空气隔振垫铁，通过对隔振垫铁充气来调节整个装置的水平，同时也较好的隔离了外部的振动。该装置的工作平台1和四个支撑腿都采用花岗岩材料制成，也能够起到很好的吸振和隔振的作用。

本发明为解决上述问题，采取的技术方案是：

大口径晶体微缺陷修复设备用多可调支撑隔振平台装置，所述大口径晶体微缺陷修复设备用多可调支撑隔振平台装置包括工作平台、中间长连接杆、中间短连接杆、四个支撑腿连接杆一、四个支撑腿连接杆二、四个主支撑组件、五个可调辅助支撑组件及三个挂装连接杆组件；每个主支撑组件包括隔震垫连接件、支撑腿及空气隔振垫铁；

空气隔振垫铁的上端与隔振垫连接件连接，支撑腿设置在隔振垫连接件上，隔振垫连接件与支撑腿连接，四个支撑腿设置在工作平台的下端面的四个角部，四个支撑腿与工作平台连接，相邻两个支撑腿之间通过由上至下并列设置的支撑腿连接杆一和支撑腿连接杆二连接，任意两个相对设置的支撑腿连接杆一之间连接有中间长连接杆，中间长连接杆和与其平行设置的一个支撑腿连接杆一之间连接有中间短连接杆；每个支撑腿连接杆一内及中间长连接杆内分别装有一个可调辅助支撑组件，可调辅助支撑组件的上端面与工作平台下端面连接；三个挂装连接杆组件设置在工作平台的下方，且三个挂装连接杆组件的上端与工作平台连接。

本发明相对于现有技术的有益效果是：

1、该平台装置包含四个主支撑组件和五个可调辅助支撑组件，保证了工作平面的平面度，工作平台尺寸为1800mm×1650mm，其工作平台平面度可控制到小于5μm范围内；辅助支撑组件的调节采用辅助支撑螺柱与推力圆柱滚子轴承相配合的结构，使得操作方便可靠。

2、该装置采用四个空气隔振垫铁，能够有效的隔离外部振动，其隔振频率小于4Hz，减小了地面振动对修复设备工作的影响；通过充气来改变空气隔振垫铁的高度，从而方便的调节该装置工作平面的水平。

3、该装置的主要零件工作平台和支撑腿均采用花岗岩材料制成，能够有效的吸收修复设备自身振动，保障了修复设备的加工精度。

4、通过三个挂装连接杆组件将底部平台部分与工作平台相连，该结构使得调节底部平台部分和该装置的工作平面相平行变得简单可靠；同时，底部平台部分与该装置的工作面平行不受地面不平的影响。