[发明专利]新型净洗剂及其制备方法有效

专利信息
申请号: 201310590541.X 申请日: 2013-11-20
公开(公告)号: CN103571654A 公开(公告)日: 2014-02-12
发明(设计)人: 曹万里;吕志阳;陆海乾;顾志安 申请(专利权)人: 上海德桑精细化工有限公司
主分类号: C11D7/60 分类号: C11D7/60;C11D7/42;C11D7/22;C11D7/02;C11D7/10;C11D7/12
代理公司: 上海脱颖律师事务所 31259 代理人: 李强
地址: 201803 上海*** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 新型 洗剂 及其 制备 方法
【说明书】:

技术领域

发明涉及一种新型净洗剂及其制备方法。

背景技术

印花后织物上的染料通过各种条件固色后,必须要经过净洗工艺中净洗剂的处理过程,目的是洗去织物上未被固着的染料、浆料和助剂等。现在应用最广的净洗剂为烷基酚聚氧乙烯(以下简称APEO),其因具有良好的洗涤、润湿、渗透、乳化、分散、增溶等作用,性质稳定、耐酸碱且成本低,曾被广泛地用于纺织、印染、造纸、石油、制药等工业。但APEO同时存在很大的弊端:近年来,APEO的生态安全性被不断地质疑,主要集中在其毒性、较差的生物降解性、环境激素、以及在APEO生产过程中产生有害副产物这四方面。欧盟规定自2005年1月17日后全面禁止使用含有APEO的产品,同时也公布了对于想要获得“欧洲纺织品生态标签(Eco-Label)”的纺织品供应商,必须提供所用的纺织助剂不含有APEO的证明。

另一方面,如图1所示为使用APEO作为净洗剂的传统净洗工艺。正是因为APEO的存在毒性,故其对应的净洗工艺需两次或多次皂洗,且皂洗温度高,单次皂洗时间长,能源及水资源消耗过高,造成能源及水资源的浪费,耗时也较长。所以,发明一种环保节能型净洗剂变的尤为迫切。

发明内容

本发明的目的是为了克服现有技术中的不足,提供一种低污染的新型净洗剂。

为实现以上目的,本发明通过以下技术方案实现:

新型净洗剂,其特征在于,包括组分及其重量百分比如下:漆酶15%~30%,淀粉15%~20%,膨润土15%~25%,氯化铵或硫酸铵20%~30%,过碳酸钠或过硼酸钠20%~30%。

本发明的另一个目的为提供一种低污染的新型净洗剂的制备方法。

为实现以上目的,本发明通过以下技术方案实现:

新型净洗剂的制备方法,其特征在于,步骤包括如下:将漆酶、淀粉、膨润土、氯化铵或硫酸铵、过碳酸钠或过硼酸钠混合并进行搅拌,使混合物混合均匀。

本发明提供的新型净洗剂,可用于织物染色后的净洗工艺,具有可完全生物降解性,避免了对环境的污染,生态安全性更高。另一方面,较现有的通过APEO净洗剂处理的净洗工艺,本发明提供的新型净洗剂,可减少皂洗次数及皂洗温度,也可减少水洗次数和单次水洗时间,降低了净洗工艺的能耗和耗水量,使净洗工艺更加节能,同时可减少净洗时间,降低工人负荷,提高工作效率,产能大大提高。皂洗的次数减少,也可降低皂洗过程中染化料和污水的排放,大大降低污水中化学需氧量(COD)和生化需氧量(BOD)的含量,节约污水处理成本。皂洗和水洗次数的减少,对织物也起到保护作用,可避免织物的重量损失,使织物柔软性和蓬松度尽可能地保留。

本发明提供的新型净洗剂的制备方法,步骤简单,生产效率高,无需高温高压处理,制备过程对环境无污染。

附图说明

图1为使用APEO处理织物的传统净洗工艺;

图2为使用本发明实施例5中的新型净洗剂处理织物的净洗工艺。

具体实施方式

下面结合实施例对本发明进行详细的描述:

按表1和表2中的重量份配比将漆酶、淀粉、膨润土、氯化铵或硫酸铵、过碳酸钠或过硼酸钠依次加入搅拌机内进行搅拌,直至均匀混合,制得新型净洗剂。

表1

表2

将实施例1~8制得的新型净洗剂分别按表3所示的染料浓度配比对织物筒子纱进行净洗工艺,其中筒子纱在浴比(织物与染液的重量比)为1:5的条件下进行染色。其中o.w.f为新型净洗剂相对织物的重量百分比。

表3

可以看出染料浓度越高,新型净洗剂用量越多。较传统皂洗剂处理的皂洗工艺参数,使用实施例1~8制得的新型皂洗剂处理筒子纱,将皂洗次数由两次降为一次,单次皂洗时间由20分钟缩短至10~15分钟,皂洗温度也由98℃减低了3~8℃,降低了净洗工艺的能耗和耗水量,使净洗工艺更加节能,同时可减少净洗时间,降低工人负荷,提高工作效率,产能大大提高。

如图2所示,为使用实施例5制得的新型净洗剂处理筒子纱的净洗工艺。通过与图1所示的传统净洗工艺相对比,皂洗次数由两次降为一次,单次皂洗时间由20分钟缩短至15分钟,皂洗温度也由98℃减低至95℃。

本发明中的实施例仅用于对本发明进行说明,并不构成对权利要求范围的限制,本领域内技术人员可以想到的其他实质上等同的替代,均在本发明保护范围内。

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