[发明专利]一种耐腐蚀薄膜的制备方法

说明书

技术领域

本发明涉及一种耐腐蚀薄膜的制备方法。

背景技术

低辐射玻璃是指对红外辐射具有高反射率，对可见光具有良好透射率的平板镀膜玻璃。低辐射玻璃具有良好的透光、保温、隔热性能，广泛应用于窗户、炉门、冷藏柜门等地方。

目前市场上较常见的低辐射玻璃有单银低辐射玻璃、双银低辐射玻璃、热控低辐射玻璃及钛基低辐射玻璃等。现有的这四种低辐射玻璃在380～780纳米的可见光波长范围内透射率不够高，仅为50％左右；在红外辐射波长范围内透射率较高，尤其是在900～1100纳米的波长范围内透射率为10～20％之间。另外，这些玻璃的耐磨性通常不够优良。

而且现有的透明基材的耐腐性和耐热性相对较差，故此，现有的透明基材有待于进步完善。

发明内容

本发明的目的是为了克服现有技术中的不足之处，提供一种工艺简单，操作方便，生产成本相对较低的耐腐蚀薄膜的制备方法。

为了达到上述目的，本发明采用以下方案：

一种耐腐蚀薄膜的制备方法，其特征在于包括以下步骤：

A、采用氧气作为反应气体，氩气作为保护气体，直流电源溅射Bi平面靶，在透明耐热基板上磁控溅射Bi₂O₃层；

B、采用氩气作为反应气体，交流电源溅射氧化钛陶瓷旋转靶，在步骤A中Bi₂O₃层上磁控溅射TiO_x层；

C、采用氮气作为反应气体，氩气作为保护气体，直流电源溅射铬平面靶，在步骤B中的TiO_x层上磁控溅射CrN_x层；

D、采用氩气作为反应气体，直流电源溅射铜平面靶，在步骤C中的CrN_x层上磁控溅射Cu层；

E、采用氩气作为反应气体，直流电源溅射NiCr合金平面靶，在步骤D中的Cu层上磁控溅射NiCr层；

F、采用氧气作为反应气体，氩气作为保护气体，交流电源溅射ZnSn合金旋转靶，在步骤E中的NiCr层上磁控溅射ZnSnO₃层。

如上所述的一种耐腐蚀薄膜的制备方法，其特征在于步骤A中所述Bi₂O₃层的厚度为10～15nm，氧气与氩气的体积比为1：2，所述直流电源的溅射功率为15～20KW。

如上所述的一种耐腐蚀薄膜的制备方法，其特征在于步骤B中所述TiO_x层的厚度为10～15nm，所述交流电源的溅射功率50～75KW。

如上所述的一种耐腐蚀薄膜的制备方法，其特征在于步骤C中所述CrN_x层的厚度为3～5nm，所述氮气与氩气的体积比为1：2，所述的直流电源的溅射功率3～6KW。

如上所述的一种耐腐蚀薄膜的制备方法，其特征在于步骤D所述Cu层的厚度为10～20nm，所述直流电源的溅射功率3～6KW。

如上所述的一种耐腐蚀薄膜的制备方法，其特征在于步骤E中所述NiCr层的厚度为3～5nm，所述NiCr合金中Ni:Cr的摩尔比21:79，所述直流电源的溅射功率3～5KW。

如上所述的一种耐腐蚀薄膜的制备方法，其特征在于F中所述ZnSnO₃层的厚度为20～30nm，所述ZnSn合金旋转靶中Zn:Sn的摩尔比48:52，所述氩气与氧气的体积比为1：2，所述交流电源的溅射功率为50～75KW。

如上所述的一种耐腐蚀薄膜的制备方法，其特征在于透明耐热基板为透明玻璃。

综上所述，本发明的有益效果：

本发明工艺方法简单，操作方便，生产成本相对较低。产品抗腐蚀性强、生产过程中对基板洁净程度要求不高，本发明产品透光率T≥65%，辐射率E≤0.15。

具体实施方式

下面结合具体实施方式对本发明做进一步描述：

实施例1

本发明一种耐腐蚀薄膜的制备方法，包括以下步骤：

A、采用氧气作为反应气体，氩气作为保护气体，直流电源溅射Bi平面靶，在透明耐热基板上磁控溅射Bi₂O₃层；其中所述Bi₂O₃层的厚度为10nm，氧气与氩气的体积比为1：2，即氧气：氩气=500sccm：1000sccm，所述直流电源的溅射功率为15KW，其中所述透明耐热基板为透明玻璃；