[发明专利]PCB化学镀铜工艺在审
申请号: | 201310549079.9 | 申请日: | 2013-11-08 |
公开(公告)号: | CN104630753A | 公开(公告)日: | 2015-05-20 |
发明(设计)人: | 李保成 | 申请(专利权)人: | 青岛宏泰铜业有限公司 |
主分类号: | C23C18/38 | 分类号: | C23C18/38;C23C18/28;C23C18/30 |
代理公司: | 无 | 代理人: | 无 |
地址: | 266700 山东省青岛市*** | 国省代码: | 山东;37 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | pcb 化学 镀铜 工艺 | ||
1.一种PCB化学镀铜工艺,其特征在于,工艺流程包括:钻孔→磨板去毛刺→上板→整孔清洁处理→双水洗→微蚀化学粗化→双水洗→预浸处理→胶体钯活化处理→双水洗→解胶处理→双水洗→沉铜→双水洗→下板→上板→浸酸→一次铜→水洗→下板→烘干;其中,整孔清洁处理采用碱性高锰酸钾处理法;微蚀液配方为:150~200克/升的硫酸、40~80毫升/升的双氧水;胶体钯活化液处方为0.25毫升/升的氯化钯、10克/升的37%盐酸、3.2克/升的氯化亚锡、0.5克/升的锡化钠、250克/升的氯化钠、50克/升的尿素,PH=0.7~0.8,室温活化,活化时间2~3min。
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C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C18-00 通过液态化合物分解抑或覆层形成化合物溶液分解、且覆层中不留存表面材料反应产物的化学镀覆
C23C18-02 .热分解法
C23C18-14 .辐射分解法,例如光分解、粒子辐射
C23C18-16 .还原法或置换法,例如无电流镀
C23C18-54 .接触镀,即无电流化学镀
C23C18-18 ..待镀材料的预处理