[发明专利]一种裸眼3D触控装置及其制造方法和显示装置有效

专利信息
申请号: 201310529095.1 申请日: 2013-10-30
公开(公告)号: CN103529584A 公开(公告)日: 2014-01-22
发明(设计)人: 杨盛际 申请(专利权)人: 北京京东方光电科技有限公司
主分类号: G02F1/1333 分类号: G02F1/1333;G02F1/1343;G02B27/22
代理公司: 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 代理人: 李相雨
地址: 100176 北*** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 裸眼 装置 及其 制造 方法 显示装置
【说明书】:

技术领域

发明涉及显示领域,具体涉及一种裸眼3D触控装置及其制造方法和显示装置。

背景技术

3D(Three-Dimensional)即三维立体图形的原理是左右眼同时接收不同角度的影像,从而模拟真实双眼的3D效果,目前的3D产品多为单一显示功能。

随着3D和触控技术的发展,3D和触控技术的整合产品逐渐受到关注,目前常见的3D和触控技术的整合产品大多采用外挂式触摸屏附加3D功能显示装置,这种整合产品的结构制程较复杂,制作成本高,并且整个装置的厚度较厚,势必影响3D显示效果。

发明内容

有鉴于此,本发明的主要目的在于提供一种裸眼3D触控装置及其制造方法和显示装置,在满足3D功能均匀显示的前提下,实现2D和3D模式的触控功能。

为达到上述目的,本发明的技术方案是这样实现的:

本发明提供一种裸眼3D触控装置,包括第一基板和第二基板以及位于所述第一基板和所述第二基板之间的液晶层,其特征在于,在所述第一基板朝向液晶层一侧的表面依次包括公共电极、绝缘层、狭缝电极单元,还包括触控电极单元;所述狭缝电极单元与所述公共电极相对设置,所述触控电极单元与所述狭缝电极单元间隔设置,每个所述狭缝电极单元包括至少两条狭缝电极,所述触控电极单元包括至少两条触控电极,位于同一所述触控电极单元内的所述触控电极同层设置且彼此绝缘。

其中,所述触控电极为单层三角形或梯形。

该裸眼3D触控装置还包括光栅驱动单元和触控感应单元,所述公共电极彼此相连,通过所述第一金属走线与所述光栅驱动单元连接,所述狭缝电极彼此相连,通过第二金属走线与所述光栅驱动单元连接;所述触控电极通过第三金属走线与所述触控感应单元连接。

所述狭缝电极通过第一过孔与所述第一金属走线相连,所述触控电极通过第二过孔与所述第三金属走线相连。

本发明提供一种显示装置,包括上述的裸眼3D触控装置。

本发明还提供一种裸眼3D触控装置的制造方法,所述方法包括:

在基板上形成公共电极图案;

在形成公共电极图案的基板上形成绝缘层图案;

在形成绝缘层图案的基板上形成狭缝电极单元图案和触控电极单元图案。

其中,在所述基板上形成公共电极的图案的方法为:

在所述基板上形成透明电极,通过构图工艺形成公共电极的图案,所述公共电极的图案与第二金属走线连接。

其中,在所述公共电极上形成绝缘层的图案的方法为:

在形成公共电极的所述基板上行形成绝缘层材料,通过构图工艺形成所述绝缘层的图案、第一过孔和第二过孔。

进一步的,在基板上形成公共电极的图案之前,所述方法还包括:

在所述基板上形成第一金属走线、第二金属走线和第三金属走线。

进一步的,在所述绝缘层上形成狭缝电极单元的图案和触控电极单元的图案的方法为:

在所述绝缘层上形成透明电极,通过构图工艺形成狭缝电极单元的图案和触控电极单元的图案,所述狭缝电极单元通过所述第一过孔与所述第一金属走线连接,所述触控电极单元通过所述第二过孔与所述第三金属走线连接;

在所述绝缘层上形成狭缝电极单元的图案和触控电极单元的图案之前,还包括:在所述绝缘层上形成所述第一过孔和所述第二过孔。

本发明裸眼3D触控装置及其制造方法和显示装置,能够利用ADS驱动方式,且所有电极都位于装置的上基板内侧,通过对电极进行重新设计,使得3D显示和触控得到了完美整合,大大提高了产品的附加值,同时又不增加工艺制程成本,在满足3D功能均匀显示的前提下,实现2D和3D模式的触控功能。附图说明

图1为本发明实施例的高级超维场转换(Advanced Super Dimension Switch,ADS)驱动方式的裸眼3D触控装置结构图;

图2为本发明实施例的狭缝电极遮挡像素的示意图;

图3-1为本发明实施例的上基板电极分布示意图;

图3-2为本发明实施例的电极分布俯视图;

图4为本发明实施例的装置引出线及3D显示原理示意图;

图5为本发明实施例的装置立体结构图;

图6-1为本发明实施例的装置生产工艺中形成金属层的示意图;

图6-2为本发明实施例的装置生产工艺中形成公共电极层的示意图;

图6-3为本发明实施例的装置生产工艺中形成绝缘层以及过孔的示意图;

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于北京京东方光电科技有限公司,未经北京京东方光电科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201310529095.1/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top