[发明专利]具有防光反馈作用的高功率半导体激光加工光源系统

权利要求书

1.具有防光反馈作用的高功率半导体激光加工光源系统，其特征在于：包括半导体激光器叠阵，在半导体激光器叠阵的出光光路上设置有防光反馈模块，所述的防光反馈模块包括检偏器，在检偏器后设置有四分之一波片或者两个八分之一波片，用以将光偏振态旋转45°。

2.根据权利要求1所述的具有防光反馈作用的高功率半导体激光加工光源系统，其特征在于：在半导体激光器叠阵出光光路之外还设置有指示光源，所述指示光源发出的光肉眼可辨识且与半导体激光器叠阵发出的光相区别；所述的半导体激光器叠阵具有多个巴条，对应于叠阵中部巴条的位置在半导体激光器叠阵的出光光路上背向设置一个反射镜，所述指示光源位于半导体激光器叠阵出光光路之外，指示光源发出的光经反射镜反射后与激光平行出射。

3.根据权利要求1所述的具有防光反馈作用的高功率半导体激光加工光源系统，其特征在于：所述指示光源为红光光源或绿光光源。

4.根据权利要求1所述的具有防光反馈作用的高功率半导体激光加工光源系统，其特征在于：反射镜成45度角设置，所属指示光源发出的光垂直于半导体激光器叠阵出光光路。

5.根据权利要求4所述的具有防光反馈作用的高功率半导体激光加工光源系统，其特征在于：设a为叠阵相邻巴条之间的间距，b为单个巴条实际出光宽度；c为反射镜的厚度，则

反射镜的长度l满足：2b≤l≤22a-2b-c.]]>

6.根据权利要求1所述的具有防光反馈作用的高功率半导体激光加工光源系统，其特征在于：所述反射镜设置于半导体激光器叠阵与防光反馈模块之间。