[发明专利]耐磨损的电镀液无效

专利信息
申请号: 201310517042.8 申请日: 2013-10-29
公开(公告)号: CN103540966A 公开(公告)日: 2014-01-29
发明(设计)人: 殷惠良 申请(专利权)人: 常熟市伟达电镀有限责任公司
主分类号: C25D3/04 分类号: C25D3/04;C25D3/12
代理公司: 北京瑞思知识产权代理事务所(普通合伙) 11341 代理人: 李涛
地址: 215500 江*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 耐磨 电镀
【说明书】:

技术领域

发明涉及一种电镀液,尤其涉及一种耐磨损的电镀液。

背景技术

在机械加工过程中,零部件表面粘附的防锈油脂、切削液、机械油、润滑油脂、磨削液、脱模剂等与尘埃、打磨粉尘混粘在一起,形成较厚的污垢。若热处理前未将以上污垢除去,则其淬火烧结成顽固的固体油垢后除油除锈很难清洗干净,施镀时气泡附着其上使镀层形成气体滞留型针孔。热处理工件表面不可避免地会粘附一层油污,当灰尘落在表面上,并与油脂混粘在一起,时间久了很难清洗干净,从而使工件表面形成不明显的细小油斑,施镀时气泡滞留其上形成针孔。另外采用网带式电阻炉淬火时,工件表面的油污与灰尘等杂质颗粒混粘在一起,烧结成顽固的固体油垢,硝盐回火时,以上油垢又与硝基盐形成顽固的热聚合物,电镀时很难把以上污物彻底除净,氢气泡易粘附在污物上面,难以排出,从而使镀层产生针孔与麻点现象,且随着气泡逐渐长大,镀层会自动胀破,产生脱皮现象,从而导致电镀液不耐磨损、镀层结晶粗糙、光泽差的缺点。

发明内容

   本发明提供一种具有耐磨损、镀层结晶细密、光泽好的优点的耐磨损的电镀液。

本发明的技术方案是:一种耐磨损的电镀液,所述的耐磨损的电镀液包括还原剂、酸度调节剂和缓冲剂组合而成,所述还原剂是次亚磷酸钠,所述酸度调节剂是硫酸,所述缓冲剂是柠檬酸钾钠,所述的次亚磷酸钠占耐磨损的电镀液总体分量的78%-82%,所述的硫酸占耐磨损的电镀液总体分量的8%-12%,所述的柠檬酸钾钠占耐磨损的电镀液总体分量的9%-13%。

在本发明一个较佳实施例中,所述的次亚磷酸钠包括亚磷酸钠、钙、硫酸离子、铁和氯。

在本发明一个较佳实施例中,所述的次亚磷酸钠占耐磨损的电镀液总体分量的81%,所述的硫酸占耐磨损的电镀液总体分量的8%,所述的柠檬酸钾钠占耐磨损的电镀液总体分量的11%。

本发明的一种耐磨损的电镀液,具有耐磨损、镀层结晶细密、光泽好的优点。

具体实施方式

下面对本发明的较佳实施例进行详细阐述,以使本发明的优点和特征能更易于被本领域技术人员理解,从而对本发明的保护范围做出更为清楚明确的界定。

其中,所述的耐磨损的电镀液包括还原剂、酸度调节剂和缓冲剂组合而成,所述还原剂是次亚磷酸钠,所述酸度调节剂是硫酸,所述缓冲剂是柠檬酸钾钠,所述的次亚磷酸钠占耐磨损的电镀液总体分量的78%-82%,所述的硫酸占耐磨损的电镀液总体分量的8%-12%,所述的柠檬酸钾钠占耐磨损的电镀液总体分量的9%-13%,所述的次亚磷酸钠包括亚磷酸钠、钙、硫酸离子、铁和氯。

进一步说明,所述的次亚磷酸钠占耐磨损的电镀液总体分量的81%,所述的硫酸占耐磨损的电镀液总体分量的8%,所述的柠檬酸钾钠占耐磨损的电镀液总体分量的11%。所述次亚磷酸钠对于使用电镀工艺无法进镀层的大型设备和细小物件、要求精度较高且具有凹凸纹复杂的外形物体、深孔内壁、要求较高的表面硬度和耐磨性的物体;或塑料、陶瓷、玻璃石英等非金属材料的表面金属化,使用本产品均可获得致密、均匀镍、铬镀层,并比电镀更为牢固。广泛用于电子,航空,机械,石油等行业。

在进一步说明,纯硫酸一般为无色油状液体,密度1.84 g/cm3,沸点337℃,能与水以任意比例互溶,同时放出大量的热,使水沸腾。加热到290℃时开始释放出三氧化硫,最终变成为98.54%的水溶液,在317℃时沸腾而成为共沸混合物。硫酸的沸点及粘度较高,是因为其分子内部的氢键较强的缘故。由于硫酸的介电常数较高,因此它是电解质的良好溶剂,而作为非电解质的溶剂则不太理想。硫酸的熔点是10.371℃,加水或加三氧化硫均会使凝固点下降。

在进一步说明,檬酸钠具有上述多种优良的性能,使得其具有十分广泛的用途。柠檬酸钠无毒性、具有pH调节性能及良好的稳定性,因此可用于食品工业。柠檬酸钠用作食品添加剂,需求量最大,主要用作调味剂、缓冲剂、乳化剂、膨胀剂、稳定剂和防腐剂等;另外,柠檬酸钠同柠檬酸配伍,用作各种果酱、果冻、果汁、饮料、冷饮、奶制品和糕点等的胶凝剂、营养增补剂及风味剂。本发明提供一种耐磨损的电镀液,具有耐磨损、镀层结晶细密、光泽好的优点。

本发明的具体实施方式,但本发明的保护范围并不局限于此,任何熟悉本领域的技术人员在本发明所揭露的技术范围内,可不经过创造性劳动想到的变化或替换,都应涵盖在本发明的保护范围之内。因此,本发明的保护范围应该以权利要求书所限定的保护范围为准。

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