[发明专利]用于透明导电薄膜的脉冲激光刻蚀装置及其控制方法无效

专利信息
申请号: 201310508910.6 申请日: 2013-10-22
公开(公告)号: CN103586586A 公开(公告)日: 2014-02-19
发明(设计)人: 龚楷峰;刘俊辉;施心星 申请(专利权)人: 苏州镭明激光科技有限公司
主分类号: B23K26/362 分类号: B23K26/362;B23K26/064;B23K26/142;B23K26/70
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 215000 江苏省苏州市吴中区*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 用于 透明 导电 薄膜 脉冲 激光 刻蚀 装置 及其 控制 方法
【权利要求书】:

1.一种用于透明导电薄膜的脉冲激光刻蚀装置,其特征在于,包括用于吸附膜材的真空平台(1)、激光器(2)和振镜(4),所述激光器(2)和振镜(4)之间设有扩束镜(3),所述真空平台(1)的上方设有CCD图像传感器(5),所述真空平台(1)的一侧设有吹气装置(6),另一侧设有集尘装置(7)。

2.如权利要求1所述的用于透明导电薄膜的脉冲激光刻蚀装置,其特征在于,所述CCD图像传感器(5)位于膜材的正上方。

3.如权利要求1所述的用于透明导电薄膜的脉冲激光刻蚀装置,其特征在于,所述激光器(2)波长范围为1060nm-1090nm,脉宽范围为1-200ns,频率范围为5KHz-1MHz。

4.如权利要求1所述的用于透明导电薄膜的脉冲激光刻蚀装置,其特征在于,所述激光器(2)、振镜(4)通过通信模块(9)和工控机(8)相连。

5.如权利要求1所述的用于透明导电薄膜的脉冲激光刻蚀装置的控制方法,其特征在于,包括如下步骤:

a)将待加工膜材通过真空吸附固定在真空平台(1)上:

b)将激光器(2)发出的激光经过扩束镜(3)对光束进行同轴扩束,控制聚焦后的光斑大小为20um-50um;

c)振镜(4)将光束聚焦于待加工膜材表面,扫描图形转化为数字信号后在待加工膜材表面进行刻蚀;

d)CCD图像传感器(5)导入定位标拍摄,并抓取靶标进行精度定位控制;

e)吹气装置(6)产生气流吹走蚀刻产生的粉尘,并通过集尘装置(7)收集粉尘。

6.如权利要求5所述的用于透明导电薄膜的脉冲激光刻蚀装置的控制方法,其特征在于,所述振镜(4)的一次性移动范围为110mm×110mm、140mm×140mm或170mm×170mm,通过多次移位反复刻蚀,最终实现整个加工幅面的刻蚀。

7.如权利要求5所述的用于透明导电薄膜的脉冲激光刻蚀装置的控制方法,其特征在于,所述真空平台(1)上设有光栅尺监测并反馈位置信息。

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