[发明专利]基于压力传感器的用于测量普朗克常量的实验设备有效

专利信息
申请号: 201310503818.0 申请日: 2013-10-23
公开(公告)号: CN103559816A 公开(公告)日: 2014-02-05
发明(设计)人: 潘梦莎;王启银;杨永刚;杨保东;罗昕;张金晔;张友玲 申请(专利权)人: 国家电网公司;山西省电力公司大同供电分公司
主分类号: G09B23/06 分类号: G09B23/06
代理公司: 北京天达知识产权代理事务所(普通合伙) 11386 代理人: 张元俊
地址: 100031 *** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 基于 压力传感器 用于 测量 普朗克 常量 实验 设备
【权利要求书】:

1.一种基于压力传感器的用于测量普朗克常量的实验设备,其特征在于,所述实验设备包括:光电头(1)、光源(7)、光源频率调节装置以及基座(12),其中,所述光电头(1)包括金属片(2)、薄膜式压力传感器(3)和压力值输出器(5),所述基座(12)支撑所述光电头(1)和所述光源(7),

所述金属片(2)呈弧形,弧形的开口方向朝向所述薄膜式压力传感器(3);

所述薄膜式压力传感器(3)的中心处开有孔洞(4);

所述光源(7)用于发射具有预定频率范围的光;

所述光源频率调节装置与所述光源(7)集成在一起,用于接收所述光源(7)所发出的光并且对所接收到的光进行带通滤波,从而输出具有预定频率的输出光,并且所述光源频率调节装置能够调节所述输出光的频率,此外,所述光源频率调节装置将所述输出光指向所述薄膜式压力传感器(3)的中心处的孔洞(4),进而使所述输出光穿过薄膜式压力传感器(3)照射在所述金属片(2)的内表面上;

所述金属片(2)接收来自所述光源(7)的并穿过所述薄膜式压力传感器(3)的孔洞(4)的输出光,并且在所述输出光的作用下相应地发射出电子;

所述薄膜式压力传感器(3)接收所述金属片(2)发出的电子、测量由电子撞击导致的压力并通过所述压力值输出器(5)来输出相应测得的压力值。

2.如权利要求1所述的实验设备,其特征在于,所述光源频率调节装置由高到低逐渐调节所述输出光的频率,直到所述压力值输出器(5)所输出的压力为零,所述实验设备基于所述压力值输出器(5)所输出的压力为零时所述输出光的频率确定普朗克常量。

3.如权利要求1所述的实验设备,其特征在于,所述光源频率调节装置由高到低逐渐调节所述输出光的频率,直到所述压力值输出器(5)所输出的压力为低于预定阈值,然后停止对所述输出光频率的调节,维持预定时间,所述实验设备基于所述压力值输出器(5)所输出的压力低于预定阈值时所述输出光的频率确定普朗克常量。

4.如权利要求1所述的实验设备,其特征在于,所述实验设备还包括光阑(6),所述光阑(6)置于所述光电头(1)的入光口处,用于调节进入所述光电头(1)的光束的形状和尺寸,所述光阑(6)与所述薄膜式压力传感器(3)的孔洞(4)对准,并且所述光阑(6)的最大孔径尺寸大于所述薄膜式压力传感器(3)的孔洞(4)的尺寸。

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