[发明专利]用于等离子体涂布系统的料片、制造方法及制造薄膜的方法

说明书

相关申请的交叉引用

本申请要求2013年4月30日在韩国知识产权局递交的韩国专利申请10-2013-0048501的优先权和权益，其全部公开内容通过引用整体合并于此。

技术领域

本发明的实施方式涉及用于等离子体涂布系统的料片、制造它的方法及使用制造所述用于等离子体涂布系统的料片的方法制造薄膜的方法。

背景技术

有机发光显示装置为具有大视角、高对比度、快响应时间、关于亮度、驱动电压和响应速度的高的特性的发射显示装置，并可显示彩色图像。

有机发光显示装置可包括有机发光装置。有机发光装置易于被水分和氧气劣化。因此，所述有机发光显示装置包括用于密封所述有机发光装置免受水分和氧气损害的封装结构。所述封装结构可由密封薄膜形成。所述密封薄膜可由无机材料形成，并且所述无机材料可通过各种方法形成为薄膜。然而，当通过使用等离子体涂布系统形成密封薄膜时，会在所述密封薄膜中包括在升华无机材料的过程中产生的灰烬、颗粒和空气传播的物质，因此，降低了所述密封薄膜的可靠性。

发明内容

本发明的实施方式提供了用于形成薄膜的等离子体涂布系统的料片（tablet）、制造所述料片的方法及使用制造所述用于等离子体涂布系统的料片的方法制造所述薄膜的方法。

根据实施方式的方面，提供了用于等离子体涂布系统的料片，所述料片包括：第一部分，所述第一部分包含在第一压力下具有第一升华点的第一材料；和第二部分，所述第二部分放置在所述第一部分上并包含在所述第一压力下具有第二熔点的第二材料，其中所述第二熔点低于所述第一升华点。

所述第一材料可为锡氧化物。

所述第二材料可为锡。

所述第二材料可为包括锡氧化物、磷氧化物、磷酸硼、锡氟化物、铌氧化物、氧化锌、氧化硼、或氧化钨中的至少一种的混合物。

所述第二部分可占整个所述料片的约10%至约50%范围内的体积，并且所述第一部分可占整个所述料片的约50%至约90%范围内的体积。

所述第一部分的上表面的中心部分可凹向所述第一部分的下表面。

所述第二部分可形成为单片或多片。

根据实施方式的方面，提供了形成用于等离子体涂布系统的料片的方法，所述料片包括第一部分和第二部分，所述方法包括：通过研磨、压缩和烧结在第一压力下具有第一升华点的第一材料而形成第一部分；和通过将在所述第一压力下具有第二熔点的第二材料放置在所述第一部分的上表面上而形成第二部分，其中，所述第二熔点低于所述第一升华点。

所述第一材料可为锡氧化物。

所述第二材料可为锡。

所述第二材料可为包括锡氧化物、磷氧化物、磷酸硼、锡氟化物、铌氧化物、氧化锌、氧化硼、或氧化钨中的至少一种的混合物。

所述方法可进一步包括形成所述第一部分的上表面的中心部分，所述中心部分凹向所述第一部分的下表面。

所述第二部分可形成为单片或多片。

根据实施方式的方面，提供了通过使用用于等离子体涂布系统的料片制造薄膜的方法，其中，所述料片包括：第一部分，所述第一部分包括在第一压力下具有第一升华点的第一材料；和第二部分，所述第二部分放置在所述第一部分上并包括具有在所述第一压力下的第二熔点的第二材料，其中所述第二熔点低于所述第一升华点，所述方法包括：加热容纳所述料片的坩埚；通过在所述第一部分的上表面的中心部分收集熔化的所述第二材料而暴露所述第一部分的上表面的边缘部分；从所述第一部分的所述暴露的上表面的边缘部分升华所述第一材料；和通过升华的所述第一材料在将要进行沉积的主体上形成薄膜。

可通过吸收从离子枪射出的电子加热所述坩埚。

从所述第一部分释放的离散的物质被熔化的所述第二材料吸收。

所述薄膜可为密封有机发光装置的密封薄膜。

根据实施方式，在通过等离子体涂布系统形成薄膜的过程中，减少了可从所述料片产生的灰烬、颗粒和空气传播的物质，因而可提高薄膜的可靠性。

附图说明

通过参照附图详细说明本发明的示例性实施方式，本发明的上面和其它特征和优点将变得更明显，其中：

图1为说明根据实施方式的用于等离子体涂布系统的料片的透视图；

图2和图3为说明根据另一个实施方式的用于等离子体涂布系统的料片的透视图；

图4为显示根据实施方式通过使用料片而形成薄膜的方法的示意性截面图；和

图5为根据实施方式通过使用料片用密封膜密封有机发光显示装置的截面视图。

具体实施方式