[发明专利]沉积设备、有机发光显示设备及其制造方法在审

专利信息
申请号: 201310472801.3 申请日: 2013-10-11
公开(公告)号: CN104073761A 公开(公告)日: 2014-10-01
发明(设计)人: 崔云铉;金京汉;崔明焕;吴京原 申请(专利权)人: 三星显示有限公司
主分类号: C23C14/04 分类号: C23C14/04;C23C16/04;H01L51/50;H01L51/56
代理公司: 北京铭硕知识产权代理有限公司 11286 代理人: 韩芳;张川绪
地址: 韩国京畿*** 国省代码: 韩国;KR
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 沉积 设备 有机 发光 显示 及其 制造 方法
【说明书】:

本申请要求于2013年3月29日在韩国知识产权局提交的第10-2013-0034691号韩国专利申请的优先权和权益,该韩国专利申请的全部内容通过引用包含于此。

技术领域

本发明的方面涉及一种沉积设备、一种制造有机发光显示设备的方法以及一种有机发光显示设备。

背景技术

包括显示设备的电子装置可以包括多个薄膜。这里,可以通过沉积工艺形成各种薄膜。

具体地,具有设定图案或预定图案的掩模可以用于形成期望图案的沉积层。然而,不容易将这样的掩模与基板精确地对准,因此,在改善沉积层的特性方面存在限制。

同时,显示设备已经被可以是便携式的薄平板显示设备代替。在平板显示设备中,有机发光显示设备是自发射显示设备,因其视角宽、对比度高以及响应速度快而被认为是下一代显示设备。

有机发光显示设备包括中间层、第一电极和第二电极。中间层包括有机发射层,当向第一电极和第二电极施加电压时,有机发射层发射可见光线。

可以通过利用沉积工艺形成有机发光显示设备中的中间层和其他薄膜。为了利用沉积工艺在基板上形成特定图案,通常使用沉积掩模。

通过沉积工艺利用沉积掩模不容易形成精细且精确的图案。特别地,随着有机发光显示设备变得更大,不容易将基板与沉积掩模彼此精确地对准,因此,难于控制沉积层的精确图案。

即,改善有机发光显示设备中的沉积层的特性方面存在限制。

发明内容

根据本发明实施例的方面,提供了一种能够改善沉积层的特性的沉积设备一种制造有机发光显示设备的方法和一种有机发光显示设备。

根据本发明的实施例,一种用于在基板上沉积沉积材料的沉积设备包括:沉积源,面对基板并被构造成排出沉积材料;图案化缝隙片,面对基板并包括用于以期望的图案沉积沉积材料的图案化缝隙;框架,接合到图案化缝隙片;以及台阶,结合到框架,以支撑框架,其中,分离区域形成在框架和台阶之间。

分离区域可以在框架和台阶之间形成为邻近于框架和台阶的结合区域。

框架和台阶可以通过多个结合构件彼此结合,分离区域可以是在框架和台阶之间通过所述多个结合构件形成的空间。

每个结合构件可以形成为球形。

每个结合构件可以为焊球。

分离区域可以在框架的邻近于结合到台阶的表面的表面中形成为凹槽。

分离区域可以在台阶的邻近于结合到框架的表面的表面中形成为凹槽。

台阶可以在被接合到框架的状态下操作,使图案化缝隙片相对于基板对准。

台阶可以包括:第一台阶,被构造成使图案化缝隙片沿着第一方向和与第一方向交叉的第二方向移动;以及第二台阶,位于第一台阶上以结合到框架,以使图案化缝隙片沿着与第一方向和第二方向垂直的第三方向移动。

一个或多个杂质可以设置在分离区域中。

所述沉积设备还可以包括:屏蔽构件,设置在沉积源和图案化缝隙片之间,其中,屏蔽构件形成为阻挡基板的至少一部分,并随基板移动。

所述沉积设备还可以包括:沉积源喷嘴单元,设置在沉积源的侧面,并包括多个沉积源喷嘴。

图案化缝隙片可以沿着至少一个方向比基板小。

多个沉积源喷嘴可以沿着第一方向形成在沉积源喷嘴单元中,图案化缝隙片可以包括沿着第一方向布置的多个图案化缝隙,沉积设备还可以包括阻挡板组件,所述阻挡板组件包括在沉积源喷嘴单元和图案化缝隙片之间沿着第一方向布置的多个阻挡板,从而将沉积源喷嘴单元和图案化缝隙片之间的空间划分成多个沉积空间。

所述多个阻挡板中的每个可以沿着基本垂直于第一方向的第二方向延伸。

阻挡板组件可以包括具有多个第一阻挡板的第一阻挡板组件和具有多个第二阻挡板的第二阻挡板组件。

所述多个第一阻挡板中的每个和所述多个第二阻挡板中的每个可以沿着基本垂直于第一方向的第二方向形成,从而将沉积源喷嘴单元和图案化缝隙片之间的空间划分成多个沉积空间。

沉积源喷嘴单元可以包括沿着第一方向的多个沉积源喷嘴,图案化缝隙片可以包括沿着垂直于第一方向的第二方向布置的多个图案化缝隙。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于三星显示有限公司,未经三星显示有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201310472801.3/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top