[发明专利]沉积设备、有机发光显示设备及其制造方法

权利要求书

1.一种用于在基板上沉积沉积材料的沉积设备，所述沉积设备包括：

沉积源，面对基板并被构造成排出沉积材料；

图案化缝隙片，面对基板并包括被构造成以期望的图案沉积沉积材料的图案化缝隙；

框架，接合到图案化缝隙片；以及

台阶，结合到框架，以支撑框架，

其中，分离区域形成在框架和台阶之间。

2.如权利要求1所述的沉积设备，其中，分离区域在框架和台阶之间形成为邻近于框架和台阶的结合区域。

3.如权利要求1所述的沉积设备，其中，框架和台阶通过多个结合构件彼此结合，分离区域是在框架和台阶之间通过所述多个结合构件形成的空间。

4.如权利要求3所述的沉积设备，其中，每个结合构件形成为球形。

5.如权利要求3所述的沉积设备，其中，每个结合构件为焊球。

6.如权利要求1所述的沉积设备，其中，分离区域在框架的邻近于结合到台阶的表面的一部分的表面中形成为凹槽。

7.如权利要求1所述的沉积设备，其中，分离区域在台阶的邻近于结合到框架的表面的一部分的表面中形成为凹槽。

8.如权利要求1所述的沉积设备，其中，台阶在被接合到框架的状态下操作，使图案化缝隙片相对于基板对准。

9.如权利要求1所述的沉积设备，其中，台阶包括：

第一台阶，被构造成使图案化缝隙片沿着第一方向和与第一方向交叉的第二方向移动；以及

第二台阶，位于第一台阶上并结合到框架，以使图案化缝隙片沿着与第一方向和第二方向垂直的第三方向移动。

10.如权利要求1所述的沉积设备，其中，一个或多个杂质设置在分离区域中。

11.如权利要求1所述的沉积设备，所述沉积设备还包括：屏蔽构件，设置在沉积源和图案化缝隙片之间，其中，屏蔽构件形成为阻挡基板的至少一部分，并随基板移动。

12.如权利要求1所述的沉积设备，所述沉积设备还包括：沉积源喷嘴单元，设置在沉积源的侧面，并包括多个沉积源喷嘴。

13.如权利要求1所述的沉积设备，其中，图案化缝隙片沿着至少一个方向比基板小。

14.如权利要求12所述的沉积设备，其中，沉积源喷嘴沿着第一方向布置在沉积源喷嘴单元中，图案化缝隙片包括沿着第一方向布置的多个图案化缝隙，沉积设备还包括阻挡板组件，所述阻挡板组件包括在沉积源喷嘴单元和图案化缝隙片之间沿着第一方向布置的多个阻挡板，从而将沉积源喷嘴单元和图案化缝隙片之间的空间划分成多个沉积空间。

15.如权利要求14所述的沉积设备，其中，所述多个阻挡板中的每个沿着基本垂直于第一方向的第二方向延伸。

16.如权利要求14所述的沉积设备，其中，阻挡板组件包括具有多个第一阻挡板的第一阻挡板组件和具有多个第二阻挡板的第二阻挡板组件。

17.如权利要求16所述的沉积设备，其中，所述多个第一阻挡板中的每个和所述多个第二阻挡板中的每个沿着基本垂直于第一方向的第二方向形成，从而将沉积源喷嘴单元和图案化缝隙片之间的空间划分成所述多个沉积空间。

18.如权利要求12所述的沉积设备，其中，沉积源喷嘴单元包括沿着第一方向布置的多个沉积源喷嘴，图案化缝隙片包括沿着垂直于第一方向的第二方向布置的多个图案化缝隙。

19.如权利要求1所述的沉积设备，所述沉积设备还包括：

输送器单元，包括其上固定有基板的传送单元，传送单元被构造为当基板固定到传送单元上时移动，输送器单元包括：第一输送器单元，沿着第一方向输送传送单元；第二输送器单元，在完成沉积工艺之后将从传送单元去除基板的传送单元输送到第一方向的相反方向；

加载单元，被构造成将基板固定在传送单元上；以及

卸载单元，被构造成将已经对其执行完沉积工艺的基板与传送单元分离，

其中，传送单元被构造为在第一输送器单元和第二输送器单元之间循环，固定在传送单元上的基板在传送单元被第一输送器单元输送的同时与图案化缝隙片分离。