[发明专利]一种进气装置及反应腔室有效
申请号: | 201310399783.0 | 申请日: | 2013-09-05 |
公开(公告)号: | CN104419912B | 公开(公告)日: | 2017-02-08 |
发明(设计)人: | 何丽 | 申请(专利权)人: | 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 |
主分类号: | C23C16/455 | 分类号: | C23C16/455 |
代理公司: | 北京天昊联合知识产权代理有限公司11112 | 代理人: | 彭瑞欣,张天舒 |
地址: | 100176 北京*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 装置 反应 | ||
1.一种进气装置,用于向反应腔室内输送工艺气体,所述进气装置包括装置本体,所述装置本体上设置有进气通道,所述进气通道的进气端与工艺气源相连通,所述进气通道的出气端与所述反应腔室相连通;其特征在于,所述进气装置还包括流量调节单元,其中:
所述流量调节单元包括至少两个气体挡板,所述至少两个气体挡板用于改变沿垂直于所述进气通道内工艺气体流向的所述进气通道的横截面中不同位置处的通气面积,来改变从该不同位置处向所述反应腔室输送工艺气体的流量,以使所述反应腔室内的工艺气体分布均匀。
2.根据权利要求1所述的进气装置,其特征在于,每个所述气体挡板所在平面与所述进气通道的横截面平行,并且
每个所述气体挡板的位于所述进气通道的横截面的中间位置处的宽度小于位于所述进气通道的横截面的边缘位置处的宽度。
3.根据权利要求2所述的进气装置,其特征在于,每个所述气体挡板的形状包括半圆形、1/4圆形、半椭圆形、1/4椭圆形、三角形和多边形。
4.根据权利要求2所述的进气装置,其特征在于,每个所述气体挡板形状为直角三角形,其中
所述直角三角形的直角位于所述进气通道的横截面的边缘位置处;所述直角三角形的锐角位于所述进气通道的横截面的中间位置处。
5.根据权利要求1所述的进气装置,其特征在于,所述至少两个气体挡板设置在所述进气通道的进气端和/或出气端的端面上。
6.根据权利要求1所述的进气装置,其特征在于,所述进气通道包括多个彼此独立的子通道,每个所述子通道的进气端与所述工艺气源相连通,出气端与所述反应腔室相连通,多个所述子通道的横截面形成所述进气通道的横截面;每个所述子通道的横截面为沿垂直于该子通道内工艺气体流向的横截面,并且
位于所述进气通道的横截面的中间位置处的各个所述子通道的通气面积大于位于所述进气通道的横截面的边缘位置处的各个所述子通道的通气面积。
7.根据权利要求6所述的进气装置,其特征在于,每个所述气体挡板所在平面与所述进气通道的横截面平行,并且
每个所述气体挡板的位于所述进气通道的横截面的中间位置处的宽度小于或等于位于所述进气通道的横截面的边缘位置处的宽度。
8.根据权利要求1所述的进气装置,其特征在于,所述流量调节单元还包括控制模块,所述控制模块用于控制各个所述气体挡板改变所述进气通道的横截面不同位置处的通气面积。
9.根据权利要求8所述的进气装置,其特征在于,所述控制模块包括升降驱动机构,所述升降驱动机构用于驱动各个所述气体挡板上升或者下降,以实现控制各个所述气体挡板改变所述进气通道的横截面不同位置处的通气面积。
10.根据权利要求9所述的进气装置,其特征在于,所述升降驱动机构的数量与所述气体挡板的数量一一对应。
11.一种反应腔室,包括进气装置和托盘,所述进气装置用于向所述反应腔室内输送工艺气体,所述托盘设置在所述反应腔室内,用于承载被加工工件,其特征在于,所述进气装置采用权利要求1-10任意一项所述的进气装置。
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C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的