[发明专利]一种利用碳酸氢钠控制过饱和度生产沉淀二氧化硅的方法

权利要求书

1.一种利用碳酸氢钠控制过饱和度生产沉淀二氧化硅的方法，其特征在于实现步骤如下：

（1）将石英砂与纯碱按要求配料，在1300～1400℃下煅烧30～60min得固态硅酸钠，同时回收CO₂；所述石英砂与纯碱的摩尔配比为1:(1.2～1.8)；

（2）固态硅酸钠在碳酸钠溶液中溶解，得到硅酸钠溶液；

（3）将步骤（2）所得到的硅酸钠溶液置于结晶反应器中，控制温度，开启搅拌器，用蠕动泵滴加碳酸氢钠溶液，通过调整溶液的滴加速率和滴加量来控制过饱和度，析出水合二氧化硅沉淀，得到悬浮液；

（4）将步骤（3）所得到的悬浮液进行过滤，得到水合二氧化硅沉淀和碳酸钠滤液，过滤后的沉淀经洗涤、干燥、粉碎制得沉淀二氧化硅产品；

（5）步骤（4）得到的滤液碳酸氢钠分三部分回收利用：一部分碳酸钠溶液吸收步骤（1）得到的CO₂气体，控制气体流量，得到碳酸氢钠溶液，返回到步骤（3）循环使用；一部分碳酸钠溶液返回到步骤（2），用于溶解固态硅酸钠；最后一部分碳酸钠溶液则经蒸发浓缩，返回到步骤（1）进行煅烧。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于：步骤（1）所述石英砂的规格为40～70目，SiO₂含量为98.8%。

3.根据权利要求1所述的方法，其特征是：步骤（2）所得到的硅酸钠溶液的浓度为1.2mol/L。

4.根据权利要求1所述的方法，其特征是：步骤（3）中结晶反应器温度控制在40～50℃。

5.根据权利要求1所述的方法，其特征是：步骤（3）中所滴加的碳酸氢钠溶液的浓度为2.7mol/L。

6.根据权利要求1所述的方法，其特征是：所述步骤（5）沉淀二氧化硅产品纯度高达99.9%以上。