[发明专利]一种由硅矿石制备高纯硅的装置及其制备方法有效
申请号: | 201310343089.7 | 申请日: | 2013-08-08 |
公开(公告)号: | CN103395787A | 公开(公告)日: | 2013-11-20 |
发明(设计)人: | 罗学涛;赖慧先;黄柳青;卢成浩;方明;陈娟;李锦堂 | 申请(专利权)人: | 厦门大学 |
主分类号: | C01B33/025 | 分类号: | C01B33/025;C01B33/037 |
代理公司: | 厦门南强之路专利事务所(普通合伙) 35200 | 代理人: | 马应森 |
地址: | 361005 *** | 国省代码: | 福建;35 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 矿石 制备 高纯 装置 及其 方法 | ||
1.一种由硅矿石制备高纯硅的装置,其特征在于设有矿热炉、辅助电极系统和定向凝固炉;
所述矿热炉底部铺设有保温砖,矿热炉侧边开有硅液出口,矿热炉壁的顶部设有均匀分布的3根空心主电极,3根空心主电极穿过矿热炉壁的顶部,3根空心主电极与矿热炉壁的顶部之间设有电极夹持装置,电极夹持装置上方设有可升降的进料系统;
所述辅助电极系统设有辅助电极、绝缘板和带夹持器的手推车,辅助电极设于带夹持器的手推车上,绝缘板设于辅助电极与带夹持器的手推车之间,辅助电极能自由移动,用于矿热炉中熔区硅液出炉和流出硅液的精炼;
所述定向凝固炉能够自由移到出硅口的下方承接硅液,定向凝固炉设有水冷装置、水冷底座、感应线圈、保温毡、石墨坩埚、窥视口、充气孔、枪体夹持器、炉盖、抽气孔、红外探测仪和等离子枪;水冷装置设于水冷底座内,感应线圈设于石墨坩埚外壁上,石墨坩埚与感应线圈之间设有保温毡,炉盖设于石墨坩埚顶部,窥视口和红外探测仪设于炉盖顶部并夹持等离子枪;等离子枪设于炉盖上,由枪体夹持器控制上下移动。
2.一种由硅矿石制备高纯硅的方法,其特征在于采用如权利要求1所述由硅矿石制备高纯硅的装置,所述方法包括以下步骤:
1)将硅矿石、油焦和木炭混合后从矿热炉炉门进入炉内,开启3根空心主电极,对原料进行加热,还原反应结束后,关闭3根空心主电极,停止加热,并从进料漏斗中加入造渣剂,再开启3根空心主电极加热,进行造渣精炼后,再关闭3根空心主电极,硅液静置;
2)开启定向凝固炉的感应线圈的电源,对石墨坩埚进行预热;
3)升起定向凝固炉的炉盖,开启辅助电极,使造渣精炼后的硅液从硅液出口中流出,在该过程中,辅助电极系统对流过的硅液进行二次电弧精炼并产生高温等离子体,进一步除去硼磷等杂质;
4)硅液经二次电弧精炼之后流入石墨坩埚中,当流入量为0.8~1.2t时,停止辅助电极系统电弧精炼,用硅块和湿微硅粉堵住出硅口,同时盖上定向凝固炉盖;
5)开启充气孔和抽气孔,向定向凝固炉内通入氩气和水蒸气的混合气体;
6)增加感应线圈电源功率,使硅液温度达到1700~1800℃;
7)开启等离子枪,对硅液表面进行等离子体熔炼;
8)调节感应线圈电源功率,用等离子枪补充加热,维持硅液表面的温度在1450~1520℃;
9)开启水冷装置;
10)定向凝固完成之后,硅锭随炉冷却,即得高纯硅。
3.如权利要求2所述一种由硅矿石制备高纯硅的方法,其特征在于在步骤1)中,所述硅矿石中的SiO2含量为98%~100%,硅矿石的颗粒度为50~100mm;所述油焦和木炭的含碳量为25%~100%,油焦和木炭的颗粒度可为1~10mm。
4.如权利要求2所述一种由硅矿石制备高纯硅的方法,其特征在于在步骤1)中,硅矿石、油焦和木炭的质量比可为(2.8~3)∶(0.9~1.2)∶(0.1~0.3)。
5.如权利要求2所述一种由硅矿石制备高纯硅的方法,其特征在于在步骤1)中,所述矿热炉的功率为6300~12500kVA,所述加热的温度为1700~1900℃,加热的时间为3~4h;所述再开启3根空心主电极加热的温度可为1600~1800℃,所述精炼的时间可为0.2~0.8h。
6.如权利要求2所述一种由硅矿石制备高纯硅的方法,其特征在于在步骤1)中,所述造渣剂按质量百分比的组成为Na2CO3(40%~60%)∶SiO2(30%~55%)∶NaF(5%~25%)的浮渣,一次性均匀放入矿热炉内,硅矿石和造渣剂的质量比可为(1~10)∶2。
7.如权利要求2所述一种由硅矿石制备高纯硅的方法,其特征在于在步骤2)中,所述感应线圈的电源功率为360~750kW;所述预热的时间为0.2~0.7h;在步骤4)中,所述石墨坩埚的容量为1.5吨。
8.如权利要求2所述一种由硅矿石制备高纯硅的方法,其特征在于在步骤5)中,所述混合气体的体积分数为氩气:98.5%~100%,水蒸气:0~1.5%,所述通入氩气和水蒸气的混合气体的流速为20~30L/h。
9.如权利要求2所述一种由硅矿石制备高纯硅的方法,其特征在于在步骤7)中,所述熔炼的时间为0.3~0.5h。
10.如权利要求2所述一种由硅矿石制备高纯硅的方法,其特征在于在步骤9)中,所述水冷装置的进口处水温为25℃,出口处水温为35~45℃,流速为10~15m3/h。
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