[发明专利]激光退火设备

说明书

本申请要求于2013年1月22日在韩国知识产权局提交的第10-2013-0007090号韩国专利申请的优先权和权益，该韩国专利申请的公开通过引用被完全包含于此。

技术领域

本发明的实施例的方面涉及一种激光退火设备。

背景技术

通常，在诸如薄膜晶体管（TFT）液晶显示（LCD）装置或有源有机发光显示装置的显示装置中，通过使用电连接到像素的TFT来控制光从像素的发射或从像素发射的光的强度。TFT可以具有各种构造，但是可以通过使用具有高迁移率的多晶硅被构造为包括有源层。为此，利用了将非晶硅晶化成多晶硅的工艺。

然而，在用于晶化非晶硅的传统激光退火设备中，在激光退火过程中照射激光束的精确度降低。

发明内容

本发明的实施例的方面提供了一种能够在激光退火期间使因反射的激光束导致的错误率最小化或降低的激光退火设备。然而，本发明不限于此。

根据本发明的实施例，一种激光退火设备包括：透镜单元，被构造为使激光束透射为照射到照射目标上；透镜单元壳，容纳透镜单元并且具有开口，所述开口被构造为允许激光束穿过所述开口；挡板，被构造为阻挡在激光束透射过透镜单元到照射目标之后被照射目标反射的激光束的至少一部分；冷却单元，位于挡板和透镜单元壳之间。

透射过透镜单元的激光束可以以除了0°之外的入射角入射在照射目标上。另外，挡板可以位于透镜单元壳下方并且可以至少部分地阻挡被照射目标反射的激光束朝着透镜单元壳行进。

冷却单元可以包括流体通道，所述流体通道具有入口和出口。

冷却单元可以具有包含与透镜单元壳的开口相对应的开口的板的形状。此外，冷却单元可以在冷却单元的开口的侧部处面接触挡板。

冷却单元可以包括壳体接触单元，所述壳体接触单元从冷却单元的边缘朝着透镜单元壳突出并且接触透镜单元壳。壳体接触单元可以包围冷却单元的边缘。另外，所述激光退火设备还可以包括净化线路，所述净化线路利用净化气体来净化冷却单元和透镜单元壳之间的空间。更具体地说，净化线路可以经由壳体接触单元净化冷却单元和透镜单元壳之间的空间。

所述激光退火设备还可以包括冷却单元位置调节单元，所述冷却单元位置调节单元被构造为调节冷却单元的位置，以改变冷却单元的开口的位置。

冷却单元可以接触挡板的面对透镜单元壳的表面。

附图说明

通过参照附图更加详细地描述本发明的示例性实施例，本发明的以上和其它特征及方面将变得更加清楚，在附图中：

图1是根据本发明实施例的激光退火设备的示意图；

图2是图1中示出的激光退火设备的挡板的剖视图；

图3是图1中示出的激光退火设备的冷却单元的透视图；

图4是示出在使用根据对比示例的激光退火设备时的情况下的出错率的曲线图；

图5是示出在使用图1中示出的激光退火设备时的情况下的出错率的曲线图；

图6是根据本发明另一实施例的激光退火设备的示意图；

图7是图6中示出的激光退火设备的冷却单元的透视图；

图8是根据本发明另一实施例的激光退火设备的示意图；

图9是根据本发明另一实施例的激光退火设备的示意图；

图10是图9中示出的激光退火设备的冷却单元的透视图；

图11是根据本发明另一实施例的激光退火设备的冷却单元的透视图。

具体实施方式

现在将参照附图更充分地描述本发明，在附图中示出了本发明的示例性实施例。然而，本发明可以以许多不同的形式来实施，且不应该解释为局限于在这里所阐述的实施例；相反，提供这些实施例使得本公开将是彻底和完全的，并将本发明的构思充分地传达给本领域的普通技术人员。在附图中，为了便于说明，会夸大元件的尺寸。

在下面的描述中，x轴、y轴和z轴不限于呈正交坐标系的三个轴，并且可以被解释为更宽的意义。例如，x轴、y轴和z轴可以是彼此正交的或非正交的。

另外，为了便于说明，附图中元件的尺寸和厚度可以被随意地设置，因此并不限制本发明的范围。

在附图中，为了清晰起见，可以夸大层和区域的厚度。将理解的是，当诸如层、区域或基板的元件被称为“位于”另一元件“上”时，它可以是“直接位于”所述元件“上”或者可以存在一个或多个中间元件。在整个说明书中，相同的标号指示相同的元件。