[发明专利]清洗装置在审

专利信息
申请号: 201310335864.4 申请日: 2013-08-02
公开(公告)号: CN104338706A 公开(公告)日: 2015-02-11
发明(设计)人: 王坚;贾照伟;何增华;王晖 申请(专利权)人: 盛美半导体设备(上海)有限公司
主分类号: B08B3/08 分类号: B08B3/08;B08B13/00
代理公司: 上海专利商标事务所有限公司 31100 代理人: 陆勍
地址: 201203 上海市浦东新*** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 清洗 装置
【权利要求书】:

1.一种清洗装置,其特征在于,包括:清洗液输送管体及与所述清洗液输送管体相连接的滴头,其中,

所述滴头包括中空的滴头壳体,滴头壳体的顶部开设有进液口,滴头壳体的底部开设有出液口,滴头壳体内填充有海绵状填充物,所述滴头壳体的开设有进液口的一侧安装在清洗液输送管体的一端。

2.根据权利要求1所述的清洗装置,其特征在于,所述清洗液输送管体包括管套和设置于管套内的导管,其中所述导管插设于所述滴头壳体的进液口内。

3.根据权利要求2所述的清洗装置,其特征在于,所述滴头壳体的进液口处设置有连接件,滴头壳体借助该连接件可拆卸的安装在清洗液输送管体的管套的一端。

4.根据权利要求1所述的清洗装置,其特征在于,所述海绵状填充物封堵滴头壳体的出液口,或者所述海绵状填充物充满所述滴头壳体的内部。

5.根据权利要求1所述的清洗装置,其特征在于,还进一步包括保湿槽,所述保湿槽存储有保湿液,当所述清洗装置处于空闲状态时,所述滴头放置于保湿槽中,以使滴头壳体内的海绵状填充物保持湿润状态。

6.根据权利要求5所述的清洗装置,其特征在于,所述保湿液为清洗液或去离子水。

7.根据权利要求5所述的清洗装置,其特征在于,所述保湿槽开设有供液口和排液口。

8.根据权利要求7所述的清洗装置,其特征在于,所述保湿槽的供液口正对着滴头壳体的出液口。

9.根据权利要求1所述的清洗装置,其特征在于,所述滴头进一步包括过滤膜,所述过滤膜包覆滴头壳体的出液口。

10.根据权利要求1所述的清洗装置,其特征在于,所述滴头进一步包括喷嘴,所述喷嘴安装在滴头壳体的出液口处。

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