[发明专利]一种印制电路板背钻的处理方法及印制电路板有效

专利信息
申请号: 201310334584.1 申请日: 2013-08-02
公开(公告)号: CN104349608B 公开(公告)日: 2017-07-28
发明(设计)人: 李小晓;张晓杰;舒明 申请(专利权)人: 北大方正集团有限公司;重庆方正高密电子有限公司;方正信息产业控股有限公司
主分类号: H05K3/42 分类号: H05K3/42;H05K1/11
代理公司: 北京银龙知识产权代理有限公司11243 代理人: 许静,安利霞
地址: 100871 北京市海淀*** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 印制 电路板 处理 方法
【说明书】:

技术领域

发明涉及电路板制作技术领域,特别是涉及一种印制电路板背钻的处理方法及印制电路板。

背景技术

背钻技术已广泛应用于现有的线路板设计中,随着印制电路板的高密度趋势,印制电路板上的通孔也趋向微孔方向发展,有的已经达到0.3mm以下。现有微孔进行背钻的最大难点在于,进行背钻过程中钻屑不能及时排出,产生钻屑堵孔的问题,最后导致客户端信号的可靠性和稳定性受钻屑影响,从而影响到电路板的质量。

目前业内对于小于0.5mm的微孔背钻,尚无有效的技术解决方案。

发明内容

为了解决现有的印制电路板的通孔直径太小,加工过程中钻屑不能及时排出,产生钻屑堵孔,导致客户端信号的可靠性和稳定性受钻屑影响。

为了解决上述技术问题,本发明提供了一种印制电路板背钻的处理方法及印制电路板。

本发明采用的技术方案是:一种印制电路板背钻的处理方法,包括:

在印制电路板上加工一第一孔径的通孔;

对所述通孔的一端进行加工,形成具有大于第一孔径的台阶孔;

对所述通孔进行电镀处理,形成镀层;

对所述台阶孔进行背钻处理,去除多余的镀层。

本发明还提供了一种印制电路板,包括相互连通的第一通孔和背钻形成的台阶孔,其中第一通孔上覆盖有与目标PCB层电连接的镀层,且第一通孔的孔径小于台阶孔的孔径。

本发明通过在通钻时增加一次加大直径的控深钻孔,使得需要背钻的通孔先制成台阶孔,再电镀后进行背钻加工,即将通孔背钻的难度降为普通的背钻加工,能有效的改善通孔背钻的堵孔缺陷,提升背钻的技术能力。

附图说明

图1为本发明一种实施例的印制电路板背钻的处理流程图;

图2为本发明一种实施例的印制电路板的微孔加工示意图;

图3为本发明一种实施例的印制电路板的台阶孔加工示意图;

图4为本发明一种实施例的印制电路板的电镀加工示意图;

图5为本发明一种实施例的印制电路板的台阶孔背钻处理的示意图。

具体实施方式

为使本发明要解决的技术问题、技术方案和优点更加清楚,下面将结合附图及具体实施例进行详细描述。

如图1所示,为本发明一种实施例的印制电路板背钻的处理流程图,包括如下步骤:

步骤S101:在印制电路板上加工一第一孔径的通孔;

步骤S102:对所述通孔的一端进行加工,形成具有大于第一孔径的台阶孔;

步骤S103:对所述通孔进行电镀处理,形成镀层;

步骤S104:对所述台阶孔进行背钻处理,去除多余的镀层。

本发明通过在通钻时增加一次加大直径的控深钻孔,使得需要背钻的通孔先制成台阶孔,再电镀后进行背钻加工,即将通孔背钻的难度降为普通的背钻加工,能有效的改善通孔背钻的堵孔缺陷,提升背钻的技术能力。

步骤S101中,加工而成的所述通孔的第一孔径为0.1~0.5mm,优选地为0.1~0.3mm。现有小于0.5mm以下的微孔背钻时,因为通孔直径太小,加工过程中钻屑中的粉尘,铜屑,铝屑不能及时排出,产生钻屑堵孔,最后导致客户端信号的可靠性和稳定性受钻屑影响,为此,本发明的背钻处理针对的通孔是孔径小于0.5mm的微孔。

步骤S102中,加工而成的台阶孔的孔径比第一孔径大,优选地大0.1~0.4mm。由于台阶孔的孔径大于第一孔径,这样对台阶孔进行背钻时,钻屑容易出来,能有效的改善通孔背钻的堵孔缺陷。该步骤加工而成的台阶孔与所述通孔具有第一孔径部分之间形成一连接段,所述连接段的表面与所述通孔的孔径方向成一夹角,从而便于清理加工台阶孔时产生的钻屑以及后续背钻时产生的钻屑。优选地,该夹角为30~80度。本发明加工而成的台阶孔的最远端与目标PCB层(即背钻孔不应钻穿的金属层)具有一定的距离,使得背钻处理后,通孔具有第一孔径处的镀层与目标PCB层电连接,该距离优选地为0.05mm~0.25mm。

步骤103中,对所述通孔进行电镀处理可以采用金属镀或者其他合适的镀层方法,从而在台阶孔和通孔的第一孔径处形成镀层。电镀可以采用铜或者锡等金属,进行电镀处理为现有技术,在此不进行赘述。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于北大方正集团有限公司;重庆方正高密电子有限公司;方正信息产业控股有限公司,未经北大方正集团有限公司;重庆方正高密电子有限公司;方正信息产业控股有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201310334584.1/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top