[发明专利]显影辊、其制造方法以及包括该显影辊的成像装置有效

专利信息
申请号: 201310329323.0 申请日: 2013-07-31
公开(公告)号: CN103984217A 公开(公告)日: 2014-08-13
发明(设计)人: 宿理胜博 申请(专利权)人: 三星电子株式会社
主分类号: G03G15/08 分类号: G03G15/08;G03G15/00
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人: 弋桂芬
地址: 韩国*** 国省代码: 韩国;KR
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摘要:
搜索关键词: 显影 制造 方法 以及 包括 成像 装置
【权利要求书】:

1.一种显影辊,其与光敏介质间隔开显影间隙并且将单组分调色剂供应到形成在所述光敏介质上的静电潜像以显影该静电潜像,该显影辊包括:

芯;以及

至少一个材料层,形成在所述芯的外圆周上,

其中所述材料层中的最外层的十点平均粗糙度为所述显影间隙的宽度的5-15%。

2.如权利要求1所述的显影辊,其中所述材料层的所述最外层是涂覆层,该涂覆层包括珠子,该珠子具有所述显影间隙的所述宽度的5-15%的直径。

3.如权利要求2所述的显影辊,其中弹性层提供在所述涂覆层和所述芯之间。

4.如权利要求2所述的显影辊,其中所述珠子为从由包含聚甲基丙烯酸甲脂颗粒的丙烯酸树脂颗粒、硅石颗粒、聚氨酯树脂颗粒、聚酰亚胺树脂颗粒和氟树脂颗粒组成的组中选出的至少一种。

5.如权利要求4所述的显影辊,其中所述涂覆层的基础树脂包括聚氨酯树脂。

6.一种制造显影辊的方法,该显影辊与光敏介质间隔开显影间隙并且将单组分调色剂供应到形成在所述光敏介质上的静电潜像以显影该静电潜像,该方法包括:

提供具有弹性层的基底材料,该弹性层形成在芯的外圆周上;

制备包括基础树脂和珠子的涂覆溶液,该珠子具有与所述显影间隙的宽度的5-15%相应的直径并且分散在所述基础树脂中;以及

用所述涂覆溶液涂覆所述基底材料的外圆周。

7.如权利要求6所述的方法,其中在所述涂覆溶液的制备中,所述珠子的分散时间为4小时或更多。

8.如权利要求7所述的方法,在所述涂覆之前,还包括使所述涂覆溶液穿过800目筛网。

9.如权利要求6至8之一所述的方法,其中所述珠子为从由包含聚甲基丙烯酸甲脂颗粒的丙烯酸树脂颗粒、硅石颗粒、聚氨酯树脂颗粒、聚酰亚胺树脂颗粒和氟树脂颗粒组成的组中选出的至少一种。

10.如权利要求9所述的方法,其中所述基础树脂包括聚氨酯树脂。

11.一种使用非磁性、单组分调色剂的成像装置,包括:

光敏介质,静电潜像形成在其上;以及

权利要求1至5中之一的显影辊。

12.如权利要求11所述的成像装置,还包括:

间隙保持构件,将所述光敏介质与所述显影辊之间的所述显影间隙的宽度保持为恒定值。

13.如权利要求11所述的成像装置,还包括:

层调节构件,将附着于所述显影辊的调色剂的厚度保持为恒定值。

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